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曝光用掩模版及掩模版组
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201920027004.7
申请日：
2019-01-08
公开(公告)号：
CN209149063U
公开(公告)日：
2019-07-23
发明(设计)人：
向洋
张波
彭林
叶宁
李凡
申请人：
申请人地址：
610200 四川省成都市双流区公兴街道青栏路1778号
IPC主分类号：
G03F100
IPC分类号：
G03F720
代理机构：
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人：
李小波;刘芳
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2019-07-23 | 授权 | 授权 |