硅片清洗液及其清洗方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810067515.8

申请日：

2008-05-29

公开(公告)号：

CN101503650A

公开(公告)日：

2009-08-12

发明(设计)人：

李杰

申请人：

申请人地址：

518029广东省深圳市福田区八卦三路光纤小区2栋3楼

IPC主分类号：

C11D726

IPC分类号：

H01L21306 H01L21311 C11D708

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司

代理人：

郑小粤

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-08-12	公开	公开
2010-12-22	授权	授权
2011-12-28	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101249725979 IPC(主分类):C11D 7/26 专利号:ZL2008100675158 变更事项:专利权人变更前:深圳深爱半导体有限公司变更后:深圳深爱半导体股份有限公司变更事项:地址变更前:518029 广东省深圳市福田区八卦三路光纤小区2栋3楼变更后:518118 广东省深圳市龙岗区宝龙工业城宝龙七路3号
2019-05-21	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C11D 7/26 申请日:20080529 授权公告日:20101222 终止日期:20180529
2009-10-07	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

一种硅片清洗液及使用该清洗液清洗硅片的方法 [P].

肖剑峰 ;

张晨 ;

吴叶军 ;

周体 .

中国专利 :CN101942365A ,2011-01-12

[2]

一种硅片清洗液及硅片清洗方法 [P].

刘长明 ;

金井升 ;

张昕宇 ;

金浩 .

中国专利 :CN108384667A ,2018-08-10

[3]

硅片清洗添加剂、硅片清洗液及其应用 [P].

陈盼盼 ;

于胤 ;

杨勇 ;

章圆圆 .

中国专利 :CN112143590A ,2020-12-29

[4]

一种硅片清洗液 [P].

聂金根 .

中国专利 :CN102533470A ,2012-07-04

[5]

硅片清洗液 [P].

王禄宝 ;

王海庆 ;

王友 ;

路景刚 .

中国专利 :CN103695190B ,2014-04-02

[6]

一种硅片清洗液 [P].

张小飞 .

中国专利 :CN107987982A ,2018-05-04

[7]

一种单晶硅片预清洗液及其清洗方法 [P].

高华 ;

戴丽丽 ;

周光华 ;

李杏兵 ;

田怡 .

中国专利 :CN103087850A ,2013-05-08

[8]

一种用于硅片清洗抛光的混酸清洗液及抛光硅片清洗方法 [P].

杉原一男 ;

贺贤汉 ;

李飞 ;

赵剑锋 ;

洪漪 .

中国专利 :CN113736580A ,2021-12-03

[9]

半导体硅片清洗液及生产方法 [P].

杨同勇 ;

李文瀚 .

中国专利 :CN106190615A ,2016-12-07

[10]

一种硅片清洗液、清洗设备及清洗工艺 [P].

王冬雪 ;

王永青 ;

崔伟 ;

郝勇 ;

侯建明 ;

张宇鹏 ;

刘茂峰 ;

李娜 ;

赵越 .

中国专利 :CN108441353A ,2018-08-24

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