一种用于铜互连的高速凸点电镀方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201210588768.6
申请日
2012-12-29
公开(公告)号
CN103103585A
公开(公告)日
2013-05-15
发明(设计)人
王溯 孙红旗 王先锋 陈春 郭杰
申请人
申请人地址
201616 上海市松江区思贤路3600号
IPC主分类号
C25D338
IPC分类号
C25D502 C25D712 C25D2110
代理机构
上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249
代理人
贾慧琴
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
一种铜互连电镀方法 [P]. 
孙守红 ;
何锋赟 .
中国专利 :CN117802542B ,2024-06-18
[2]
一种铜互连电镀方法 [P]. 
孙守红 ;
何锋赟 .
中国专利 :CN117802542A ,2024-04-02
[3]
一种铜互连电镀液及铜互连电镀方法 [P]. 
刘志权 ;
李哲 ;
彭振家 ;
刘兴权 ;
孙蓉 .
中国专利 :CN114775001A ,2022-07-22
[4]
一种铜互连电镀液及铜互连电镀方法 [P]. 
刘志权 ;
李哲 ;
彭振家 ;
刘兴权 ;
孙蓉 .
中国专利 :CN114775001B ,2024-04-23
[5]
一种用于大马士革铜互连的电镀液及其电镀工艺 [P]. 
陈艳 ;
孟迪 ;
彭洪修 .
中国专利 :CN120231107A ,2025-07-01
[6]
一种用于3D铜互连高深宽比硅通孔技术微孔电镀填铜方法 [P]. 
王溯 ;
于仙仙 ;
马丽 ;
李艳艳 .
中国专利 :CN103361694A ,2013-10-23
[7]
一种用于晶圆级凸点互连的锡铅合金电镀液及电镀方法 [P]. 
马海涛 ;
刘向卿 .
中国专利 :CN120797114A ,2025-10-17
[8]
一种应用于半导体芯片铜互连的电镀铜添加剂及制备方法 [P]. 
李树岗 ;
刘政 ;
周庆宏 ;
陈伟长 ;
高勇 .
中国专利 :CN119330902A ,2025-01-21
[9]
铜互连电镀填充方法 [P]. 
李明 ;
张俊红 ;
孙琪 ;
曹海勇 .
中国专利 :CN103700619B ,2014-04-02
[10]
用于晶圆级凸点互连的锡银铜合金电镀液及电镀方法 [P]. 
马海涛 ;
苏小林 ;
王云鹏 ;
刘向卿 ;
李晨羽 ;
张中旭 .
中国专利 :CN117822072A ,2024-04-05