具有分段反射镜的光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380036437.4

申请日：

2013-06-19

公开(公告)号：

CN104428647A

公开(公告)日：

2015-03-18

发明(设计)人：

J.哈特杰斯

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G01L2100

IPC分类号：

G01B714 G01B1312 G03F720

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

陈金林

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-03-18	公开	公开
2017-06-06	授权	授权
2015-04-15	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101605753602 IPC(主分类):G01L 21/00 专利申请号:2013800364374 申请日:20130619

共 50 条

[1]

光刻设备的反射镜和光刻设备 [P].

M.施瓦布 ;

R.芬肯 ;

B.戈珀特 .

中国专利 :CN107003620B ,2017-08-01

[2]

用于光刻设备的反射镜层和反射镜 [P].

Z·S·豪厄林 ;

I·唐梅兹诺扬 .

:CN119923599A ,2025-05-02

[3]

多层反射镜和光刻设备 [P].

D·克鲁什考沃 ;

V·班尼恩 ;

L·斯基曼恩奥克 ;

N·萨拉斯科恩考 ;

N·克哈罗 .

中国专利 :CN102318010A ,2012-01-11

[4]

多层反射镜和光刻设备 [P].

A·M·雅库尼恩 .

中国专利 :CN102736441B ,2012-10-17

[5]

多层反射镜和光刻设备 [P].

D·格卢什科夫 ;

V·巴内尼 ;

J·H·J·莫尔斯 ;

L·A·斯基梅诺克 ;

N·N·塞拉斯申科 .

中国专利 :CN102047183B ,2011-05-04

[6]

反射镜、光刻设备以及器件制造方法 [P].

V·班尼恩 ;

L·斯基曼恩奥克 ;

A·M·雅库尼恩 .

中国专利 :CN102105837A ,2011-06-22

[7]

用于光刻系统的MEMS反射镜、微反射镜阵列和照明系统、光刻系统和用于生产光刻系统的方法 [P].

S·沃尔兹 ;

O·赫伯斯特 ;

M·霍尔兹 ;

S·瓦斯 .

德国专利 :CN120936954A ,2025-11-11

[8]

用于光刻设备的投影系统、反射镜和辐射源 [P].

M·范德克尔克霍夫 ;

A·范欧斯腾 ;

H·巴特勒 ;

E·鲁普斯特拉 ;

M·范德威吉斯特 ;

K·扎尔 .

中国专利 :CN105122139A ,2015-12-02

[9]

椭球反射镜固定机构、光学测量系统及光刻设备 [P].

孙俊阳 ;

陈柯君 .

中国专利 :CN113640938B ,2021-11-12

[10]

快速反射镜 [P].

谭淞年 ;

许永森 ;

程艳萍 ;

叶柏 .

中国专利 :CN111624729B ,2020-09-04

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