多层反射镜和光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080007169.X

申请日：

2010-01-11

公开(公告)号：

CN102318010A

公开(公告)日：

2012-01-11

发明(设计)人：

D·克鲁什考沃 V·班尼恩 L·斯基曼恩奥克 N·萨拉斯科恩考 N·克哈罗

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G21K106

IPC分类号：

G03F700

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

吴敬莲

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-01-11	公开	公开
2012-03-28	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101211314569 IPC(主分类):G21K 1/06 专利申请号:201080007169X 申请日:20100111
2016-01-20	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101726848760 IPC(主分类):G21K 1/06 专利申请号:201080007169X 申请公布日:20120111

共 50 条

[1]

多层反射镜和光刻设备 [P].

A·M·雅库尼恩 .

中国专利 :CN102736441B ,2012-10-17

[2]

多层反射镜和光刻设备 [P].

D·格卢什科夫 ;

V·巴内尼 ;

J·H·J·莫尔斯 ;

L·A·斯基梅诺克 ;

N·N·塞拉斯申科 .

中国专利 :CN102047183B ,2011-05-04

[3]

光刻设备的反射镜和光刻设备 [P].

M.施瓦布 ;

R.芬肯 ;

B.戈珀特 .

中国专利 :CN107003620B ,2017-08-01

[4]

用于光刻设备的反射镜层和反射镜 [P].

Z·S·豪厄林 ;

I·唐梅兹诺扬 .

:CN119923599A ,2025-05-02

[5]

具有分段反射镜的光刻设备 [P].

J.哈特杰斯 .

中国专利 :CN104428647A ,2015-03-18

[6]

反射镜、光刻设备以及器件制造方法 [P].

V·班尼恩 ;

L·斯基曼恩奥克 ;

A·M·雅库尼恩 .

中国专利 :CN102105837A ,2011-06-22

[7]

用于光刻设备的投影系统、反射镜和辐射源 [P].

M·范德克尔克霍夫 ;

A·范欧斯腾 ;

H·巴特勒 ;

E·鲁普斯特拉 ;

M·范德威吉斯特 ;

K·扎尔 .

中国专利 :CN105122139A ,2015-12-02

[8]

用于去除光刻设备的无盖层的多层反射镜上的沉积物的方法、光刻设备以及器件制造方法 [P].

V·班尼恩 ;

M·杰克 ;

W·索尔 ;

M·凡赫彭 .

中国专利 :CN102077142A ,2011-05-25

[9]

椭球反射镜固定机构、光学测量系统及光刻设备 [P].

孙俊阳 ;

陈柯君 .

中国专利 :CN113640938B ,2021-11-12

[10]

反射镜校准方法、位置测量方法、光刻设备和装置制造方法 [P].

J·M·T·A·阿德里亚诺 ;

C·J·C·朔尔曼斯 ;

L·J·H·塞伦 .

中国专利 :CN114026383A ,2022-02-08

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