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反射镜、光刻设备以及器件制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200980129219.9
申请日
:
2009-07-16
公开(公告)号
:
CN102105837A
公开(公告)日
:
2011-06-22
发明(设计)人
:
V·班尼恩
L·斯基曼恩奥克
A·M·雅库尼恩
申请人
:
申请人地址
:
荷兰维德霍温
IPC主分类号
:
G03F720
IPC分类号
:
G21K106
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
王波波
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2011-06-22
公开
公开
2014-04-30
授权
授权
2011-10-05
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101114912313 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009801292199 申请日:20090716
共 50 条
[1]
用于光刻设备的反射镜层和反射镜
[P].
Z·S·豪厄林
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
Z·S·豪厄林
;
I·唐梅兹诺扬
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
I·唐梅兹诺扬
.
:CN119923599A
,2025-05-02
[2]
光刻设备的反射镜和光刻设备
[P].
M.施瓦布
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0
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0
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0
M.施瓦布
;
R.芬肯
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R.芬肯
;
B.戈珀特
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0
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0
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0
B.戈珀特
.
中国专利
:CN107003620B
,2017-08-01
[3]
多层反射镜和光刻设备
[P].
D·克鲁什考沃
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0
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0
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D·克鲁什考沃
;
V·班尼恩
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V·班尼恩
;
L·斯基曼恩奥克
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L·斯基曼恩奥克
;
N·萨拉斯科恩考
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N·萨拉斯科恩考
;
N·克哈罗
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0
N·克哈罗
.
中国专利
:CN102318010A
,2012-01-11
[4]
多层反射镜和光刻设备
[P].
A·M·雅库尼恩
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0
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0
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0
A·M·雅库尼恩
.
中国专利
:CN102736441B
,2012-10-17
[5]
多层反射镜和光刻设备
[P].
D·格卢什科夫
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D·格卢什科夫
;
V·巴内尼
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V·巴内尼
;
J·H·J·莫尔斯
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J·H·J·莫尔斯
;
L·A·斯基梅诺克
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L·A·斯基梅诺克
;
N·N·塞拉斯申科
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0
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0
N·N·塞拉斯申科
.
中国专利
:CN102047183B
,2011-05-04
[6]
具有分段反射镜的光刻设备
[P].
J.哈特杰斯
论文数:
0
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0
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J.哈特杰斯
.
中国专利
:CN104428647A
,2015-03-18
[7]
光刻设备以及器件制造方法
[P].
K·范隐真申诺
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0
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K·范隐真申诺
;
J·范斯库特
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J·范斯库特
;
G·德维里斯
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0
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0
G·德维里斯
.
中国专利
:CN102695988B
,2012-09-26
[8]
光刻设备以及器件制造方法
[P].
J·范斯库特
论文数:
0
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0
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0
J·范斯库特
;
克恩·万英根谢诺
论文数:
0
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克恩·万英根谢诺
;
G·德维里斯
论文数:
0
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0
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0
G·德维里斯
.
中国专利
:CN102612667B
,2012-07-25
[9]
光刻设备以及器件制造方法
[P].
H·巴特勒
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0
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0
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0
H·巴特勒
;
M·W·M·范德维基斯特
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M·W·M·范德维基斯特
;
C·A·L·德霍恩
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0
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0
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0
C·A·L·德霍恩
.
中国专利
:CN101441420B
,2009-05-27
[10]
用于去除光刻设备的无盖层的多层反射镜上的沉积物的方法、光刻设备以及器件制造方法
[P].
V·班尼恩
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V·班尼恩
;
M·杰克
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M·杰克
;
W·索尔
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W·索尔
;
M·凡赫彭
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0
M·凡赫彭
.
中国专利
:CN102077142A
,2011-05-25
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