反射镜、光刻设备以及器件制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200980129219.9
申请日
2009-07-16
公开(公告)号
CN102105837A
公开(公告)日
2011-06-22
发明(设计)人
V·班尼恩 L·斯基曼恩奥克 A·M·雅库尼恩
申请人
申请人地址
荷兰维德霍温
IPC主分类号
G03F720
IPC分类号
G21K106
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
王波波
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
用于光刻设备的反射镜层和反射镜 [P]. 
Z·S·豪厄林 ;
I·唐梅兹诺扬 .
:CN119923599A ,2025-05-02
[2]
光刻设备的反射镜和光刻设备 [P]. 
M.施瓦布 ;
R.芬肯 ;
B.戈珀特 .
中国专利 :CN107003620B ,2017-08-01
[3]
多层反射镜和光刻设备 [P]. 
D·克鲁什考沃 ;
V·班尼恩 ;
L·斯基曼恩奥克 ;
N·萨拉斯科恩考 ;
N·克哈罗 .
中国专利 :CN102318010A ,2012-01-11
[4]
多层反射镜和光刻设备 [P]. 
A·M·雅库尼恩 .
中国专利 :CN102736441B ,2012-10-17
[5]
多层反射镜和光刻设备 [P]. 
D·格卢什科夫 ;
V·巴内尼 ;
J·H·J·莫尔斯 ;
L·A·斯基梅诺克 ;
N·N·塞拉斯申科 .
中国专利 :CN102047183B ,2011-05-04
[6]
具有分段反射镜的光刻设备 [P]. 
J.哈特杰斯 .
中国专利 :CN104428647A ,2015-03-18
[7]
光刻设备以及器件制造方法 [P]. 
K·范隐真申诺 ;
J·范斯库特 ;
G·德维里斯 .
中国专利 :CN102695988B ,2012-09-26
[8]
光刻设备以及器件制造方法 [P]. 
J·范斯库特 ;
克恩·万英根谢诺 ;
G·德维里斯 .
中国专利 :CN102612667B ,2012-07-25
[9]
光刻设备以及器件制造方法 [P]. 
H·巴特勒 ;
M·W·M·范德维基斯特 ;
C·A·L·德霍恩 .
中国专利 :CN101441420B ,2009-05-27
[10]
用于去除光刻设备的无盖层的多层反射镜上的沉积物的方法、光刻设备以及器件制造方法 [P]. 
V·班尼恩 ;
M·杰克 ;
W·索尔 ;
M·凡赫彭 .
中国专利 :CN102077142A ,2011-05-25