用于光刻设备的反射镜层和反射镜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380070561.6

申请日：

2023-09-29

公开(公告)号：

CN119923599A

公开(公告)日：

2025-05-02

发明(设计)人：

Z·S·豪厄林 I·唐梅兹诺扬

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰

IPC主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王益

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-28	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/00申请日:20230929
2025-05-02	公开	公开

共 50 条

[1]

多层反射镜和光刻设备 [P].

D·克鲁什考沃 ;

V·班尼恩 ;

L·斯基曼恩奥克 ;

N·萨拉斯科恩考 ;

N·克哈罗 .

中国专利 :CN102318010A ,2012-01-11

[2]

多层反射镜和光刻设备 [P].

A·M·雅库尼恩 .

中国专利 :CN102736441B ,2012-10-17

[3]

光刻设备的反射镜和光刻设备 [P].

M.施瓦布 ;

R.芬肯 ;

B.戈珀特 .

中国专利 :CN107003620B ,2017-08-01

[4]

多层反射镜和光刻设备 [P].

D·格卢什科夫 ;

V·巴内尼 ;

J·H·J·莫尔斯 ;

L·A·斯基梅诺克 ;

N·N·塞拉斯申科 .

中国专利 :CN102047183B ,2011-05-04

[5]

具有分段反射镜的光刻设备 [P].

J.哈特杰斯 .

中国专利 :CN104428647A ,2015-03-18

[6]

高反射镜 [P].

井奈绪子 ;

尾山卓司 ;

门胁一生 .

中国专利 :CN1576902A ,2005-02-09

[7]

反射镜、光刻设备以及器件制造方法 [P].

V·班尼恩 ;

L·斯基曼恩奥克 ;

A·M·雅库尼恩 .

中国专利 :CN102105837A ,2011-06-22

[8]

微反射镜阵列 [P].

L·R·S·哈斯普斯劳格 ;

V·罗切斯 ;

G·布兰达尼·托里 ;

A·哈尔巴赫 ;

N·潘迪 ;

S·A·戈登 .

:CN114341700B ,2024-08-09

[9]

微反射镜阵列 [P].

L·R·S·哈斯普斯劳格 ;

V·罗切斯 ;

G·布兰达尼·托里 ;

N·潘迪 ;

S·A·戈登 .

:CN114402261B ,2025-06-13

[10]

后表面反射镜 [P].

米夏埃尔·舍勒 ;

维兰德·施特克尔 ;

海因·乌利希 ;

诺贝特·凯泽 .

中国专利 :CN1997852A ,2007-07-11

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