一种电子束光斑及电子束束流的控制方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710920120.7

申请日：

2017-09-30

公开(公告)号：

CN109599311A

公开(公告)日：

2019-04-09

发明(设计)人：

苗丁

申请人：

申请人地址：

516127 广东省惠州市博罗县石湾镇石湾大道(滘吓董屋段)北侧

IPC主分类号：

H01J302

IPC分类号：

代理机构：

北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315

代理人：

王华强

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-12-18	授权	授权
2019-05-03	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 3/02 申请日:20170930
2019-04-09	公开	公开

共 50 条

[1]

电子束曝光方法及电子束曝光装置 [P].

伊藤英一 ;

佃雅彦 .

中国专利 :CN1708729A ,2005-12-14

[2]

电子束分束模块及电子束分束模块制备方法 [P].

张衍俊 ;

刘珠明 ;

陈志涛 .

中国专利 :CN117930595A ,2024-04-26

[3]

电子束处理方法及电子束处理装置 [P].

光冈一行 ;

本多稔 ;

康松润 ;

斋藤祐介 .

中国专利 :CN1534732A ,2004-10-06

[4]

电子束描绘装置及电子束描绘方法 [P].

东矢高尚 ;

中山贵仁 .

中国专利 :CN103257528A ,2013-08-21

[5]

电子束记录装置及电子束记录方法 [P].

佃雅彦 ;

林一英 ;

植野文章 .

中国专利 :CN1186768C ,2003-01-29

[6]

电子束的束流引导装置 [P].

唐传祥 ;

孙志超 .

中国专利 :CN2641816Y ,2004-09-15

[7]

电子束流检测装置以及电子束流检测系统 [P].

谭海斌 ;

赵海波 .

中国专利 :CN223400968U ,2025-09-30

[8]

电子束扫描聚焦成像系统及电子束控制方法 [P].

孟烨南 ;

王方江 ;

王猛 ;

李波 .

中国专利 :CN121011487A ,2025-11-25

[9]

电子束监视装置及电子束照射系统 [P].

松井信二郎 .

日本专利 :CN118160050A ,2024-06-07

[10]

电子束描绘装置和电子束描绘方法 [P].

东矢高尚 .

中国专利 :CN101546134B ,2009-09-30

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