一种拼接式掩模版、曝光装置及曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810813185.6

申请日：

2018-07-23

公开(公告)号：

CN110750031A

公开(公告)日：

2020-02-04

发明(设计)人：

杨向超张家锦

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F162

IPC分类号：

G03F126 G03F142

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

孟金喆

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-02-04	公开	公开
2020-02-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/62 申请日:20180723
2021-10-29	授权	授权

共 50 条

[1]

投影曝光装置、投影曝光方法以及掩模版 [P].

中泽朗 .

中国专利 :CN106483773A ,2017-03-08

[2]

一种掩模版以及曝光装置 [P].

陈前杰 ;

陈新强 ;

江建国 .

中国专利 :CN223229847U ,2025-08-15

[3]

一种掩模装置、曝光设备及曝光方法 [P].

张家锦 ;

杨向超 .

中国专利 :CN110727169B ,2020-01-24

[4]

投影曝光用掩模、投影曝光装置、及投影曝光方法 [P].

饭塚和央 ;

磯端纯二 ;

田中信义 .

中国专利 :CN100343759C ,2004-08-11

[5]

曝光掩模和使用该曝光掩模的曝光方法 [P].

李树雄 ;

白尚润 .

中国专利 :CN1637594A ,2005-07-13

[6]

曝光方法、曝光装置以及光掩模 [P].

畠中公荣 .

中国专利 :CN103513516B ,2014-01-15

[7]

无掩模曝光系统及无掩模曝光方法 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN121028467A ,2025-11-28

[8]

掩模曝光用紫外曝光装置 [P].

胡斌 ;

莫大洪 ;

原保平 ;

于天来 ;

王培新 .

中国专利 :CN213750656U ,2021-07-20

[9]

使用曝光掩模的曝光方法 [P].

李树雄 ;

白尚润 .

中国专利 :CN1979344B ,2007-06-13

[10]

光掩模、光掩模组、曝光装置以及曝光方法 [P].

高野祥司 ;

松田文彦 ;

成泽嘉彦 .

中国专利 :CN103676495A ,2014-03-26

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