一种测量硅片表面金属杂质的前处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110371838.8

申请日：

2011-11-21

公开(公告)号：

CN103123904B

公开(公告)日：

2013-05-29

发明(设计)人：

李晓丽孙威

申请人：

申请人地址：

214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号

IPC主分类号：

H01L2166

IPC分类号：

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

常亮;李辰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-05-29	公开	公开
2015-11-25	授权	授权
2013-06-26	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101480523682 IPC(主分类):H01L 21/66 专利申请号:2011103718388 申请日:20111121

共 50 条

[1]

一种硅片表面金属杂质的管控方法 [P].

蔡伟耀 ;

卢健平 .

中国专利 :CN112614789B ,2025-07-25

[2]

一种硅片表面金属杂质的管控方法 [P].

蔡伟耀 ;

卢健平 .

中国专利 :CN112614789A ,2021-04-06

[3]

一种硅片表面金属杂质的取样装置 [P].

刘维海 ;

庞龙龙 ;

聂环 ;

张俊宝 ;

陈猛 .

中国专利 :CN220982855U ,2024-05-17

[4]

一种去除硅片金属杂质的方法 [P].

江润峰 ;

曹威 .

中国专利 :CN103871871A ,2014-06-18

[5]

硅片表面金属元素的测量方法 [P].

李晓丽 ;

孙威 .

中国专利 :CN104165922B ,2014-11-26

[6]

一种检测硅片中金属杂质的方法 [P].

罗继薇 ;

胡浩 ;

庞龙龙 ;

李鹏 ;

李雅霜 ;

叶斐 ;

陈猛 .

中国专利 :CN119028856A ,2024-11-26

[7]

一种去除硅片表面杂质的方法 [P].

杨福山 ;

叶淳超 ;

夏恒军 .

中国专利 :CN101875048A ,2010-11-03

[8]

一种硅片外延层中金属杂质的去除方法及硅片 [P].

胡浩 ;

庞龙龙 ;

陈猛 .

中国专利 :CN118737826A ,2024-10-01

[9]

有效去除硅片表面金属的清洗方法 [P].

杉原一男 ;

宣丽英 .

中国专利 :CN112928017A ,2021-06-08

[10]

降低硅片金属杂质的方法 [P].

周星星 ;

郑刚 ;

张召 .

中国专利 :CN113506733A ,2021-10-15

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