一种硅片表面金属杂质的管控方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011349781.7

申请日：

2020-11-26

公开(公告)号：

CN112614789A

公开(公告)日：

2021-04-06

发明(设计)人：

蔡伟耀卢健平

申请人：

申请人地址：

221004 江苏省徐州市经济技术开发区鑫芯路1号

IPC主分类号：

H01L2166

IPC分类号：

H01L2167 G01N27626

代理机构：

北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201

代理人：

尚伟净

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-04-23	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/66 申请日:20201126
2021-04-06	公开	公开

共 50 条

[1]

一种硅片表面金属杂质的管控方法 [P].

蔡伟耀 ;

卢健平 .

中国专利 :CN112614789B ,2025-07-25

[2]

一种去除硅片金属杂质的方法 [P].

江润峰 ;

曹威 .

中国专利 :CN103871871A ,2014-06-18

[3]

一种硅片表面金属杂质的取样装置 [P].

刘维海 ;

庞龙龙 ;

聂环 ;

张俊宝 ;

陈猛 .

中国专利 :CN220982855U ,2024-05-17

[4]

一种测量硅片表面金属杂质的前处理方法 [P].

李晓丽 ;

孙威 .

中国专利 :CN103123904B ,2013-05-29

[5]

一种去除硅片表面杂质的方法 [P].

杨福山 ;

叶淳超 ;

夏恒军 .

中国专利 :CN101875048A ,2010-11-03

[6]

降低硅片金属杂质的方法 [P].

周星星 ;

郑刚 ;

张召 .

中国专利 :CN113506733A ,2021-10-15

[7]

一种清除硅片表面污染杂质的方法 [P].

石坚 .

中国专利 :CN111554564B ,2020-08-18

[8]

一种检测硅片中金属杂质的方法 [P].

罗继薇 ;

胡浩 ;

庞龙龙 ;

李鹏 ;

李雅霜 ;

叶斐 ;

陈猛 .

中国专利 :CN119028856A ,2024-11-26

[9]

一种硅片表面钨铁金属离子的清洗方法 [P].

贾红 ;

郑书红 ;

邱建荣 .

中国专利 :CN104299890A ,2015-01-21

[10]

一种检测硅片表面氧化膜内金属离子含量的方法 [P].

刘九江 ;

李诺 ;

李仕权 ;

张晋英 ;

刘琦 ;

张晋会 ;

吕莹 .

中国专利 :CN107389663A ,2017-11-24

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