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半导体器件和形成用于无铅凸块连接的双UBM结构的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201110073590.7
申请日
:
2011-03-25
公开(公告)号
:
CN102201351A
公开(公告)日
:
2011-09-28
发明(设计)人
:
林立人
S·A·墨菲
孙伟
申请人
:
申请人地址
:
新加坡新加坡市
IPC主分类号
:
H01L2160
IPC分类号
:
H01L21768
H01L23485
H01L23488
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
:
曲宝壮;蒋骏
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-09-14
授权
授权
2011-09-28
公开
公开
2013-02-06
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/60 专利申请号:2011100735907 申请日:20110325 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101391738580
共 50 条
[1]
围绕凸块形成区形成具有多层UBM的凸块结构的半导体器件和方法
[P].
林耀剑
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0
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0
林耀剑
;
方建敏
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方建敏
;
陈康
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0
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0
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陈康
.
中国专利
:CN102130101A
,2011-07-20
[2]
具有凸块结构的半导体器件和制造半导体器件的方法
[P].
曹佩华
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0
曹佩华
;
陈承先
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陈承先
;
蔡承纮
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蔡承纮
;
张国钦
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张国钦
;
朱立寰
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0
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朱立寰
.
中国专利
:CN109979903B
,2019-07-05
[3]
形成半导体器件的连接突块的方法
[P].
赵文祺
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0
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赵文祺
;
林桓植
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林桓植
;
朴善姬
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朴善姬
.
中国专利
:CN103035543A
,2013-04-10
[4]
凸块和具有凸块的半导体器件
[P].
裵振浩
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0
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裵振浩
;
朴明根
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0
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0
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朴明根
.
中国专利
:CN102646657A
,2012-08-22
[5]
用于半导体器件的伸长凸块结构
[P].
郭庭豪
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0
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0
郭庭豪
;
陈玉芬
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陈玉芬
;
陈承先
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陈承先
;
余振华
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余振华
;
吴胜郁
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吴胜郁
;
庄其达
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0
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庄其达
.
中国专利
:CN102629597A
,2012-08-08
[6]
用于半导体器件的伸长凸块结构
[P].
郭庭豪
论文数:
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0
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0
郭庭豪
;
陈玉芬
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陈玉芬
;
陈承先
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陈承先
;
余振华
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余振华
;
吴胜郁
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吴胜郁
;
庄其达
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庄其达
.
中国专利
:CN105762128A
,2016-07-13
[7]
半导体器件和用于形成半导体器件结构的方法
[P].
林文凯
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0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林文凯
;
程柏壬
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
程柏壬
;
张哲豪
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张哲豪
;
黄泰钧
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
黄泰钧
;
李资良
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
李资良
.
中国专利
:CN120711801A
,2025-09-26
[8]
在半导体器件上形成凸块的方法
[P].
朴明淳
论文数:
0
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0
朴明淳
.
中国专利
:CN101019222A
,2007-08-15
[9]
改善半导体器件中的焊料凸块连接的结构和方法
[P].
蒂莫西·H·道本斯匹克
论文数:
0
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0
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蒂莫西·H·道本斯匹克
;
杰弗里·P·甘比诺
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杰弗里·P·甘比诺
;
克里斯托弗·D·玛兹
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克里斯托弗·D·玛兹
;
沃尔夫冈·索特
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沃尔夫冈·索特
;
T·D·萨利文
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T·D·萨利文
.
中国专利
:CN101770962A
,2010-07-07
[10]
形成引线上凸块互连的半导体器件和方法
[P].
R.D.潘德塞
论文数:
0
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0
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R.D.潘德塞
.
中国专利
:CN102487020B
,2012-06-06
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