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一种掩膜版、制备半导体器件的方法和半导体器件
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010509455.1
申请日：
2020-06-04
公开(公告)号：
CN111638625A
公开(公告)日：
2020-09-08
发明(设计)人：
凌坚
孙彬
申请人：
申请人地址：
361012 福建省厦门市自由贸易试验区厦门片区建港路29号海沧国际物流大厦10楼1001单元F0193
IPC主分类号：
G03F100
IPC分类号：
代理机构：
北京中知法苑知识产权代理有限公司 11226
代理人：
李明;赵吉阳
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-09-08 | 公开 | 公开 |
| 2020-10-02 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/00 申请日:20200604 |