等离子体反应室

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03147485.3

申请日：

2003-07-14

公开(公告)号：

CN1266550C

公开(公告)日：

2005-01-26

发明(设计)人：

梁忠棋张昭升黄木上彭顺煌

申请人：

申请人地址：

台湾省新竹市

IPC主分类号：

G03F736

IPC分类号：

G02F113

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

陶凤波;侯宇

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-09-07	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101677697168 IPC(主分类):G03F 7/36 专利号:ZL031474853 申请日:20030714 授权公告日:20060726 终止日期:20150714
2005-01-26	公开	公开
2006-07-26	授权	授权
2005-03-30	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

等离子体反应室及具有其的等离子体装置 [P].

武小娟 .

中国专利 :CN103515179A ,2014-01-15

[2]

等离子体反应方法和等离子体反应装置 [P].

石川泰男 .

中国专利 :CN115380629A ,2022-11-22

[3]

用于等离子体反应腔室的电加热器、等离子体反应腔室 [P].

杜鹏程 ;

杨芹 ;

胡萍 ;

王桂滨 ;

马雷 .

中国专利 :CN120417139A ,2025-08-01

[4]

腔体内衬、等离子体反应腔室和等离子体设备 [P].

肖德志 ;

王建龙 .

中国专利 :CN110838429B ,2020-02-25

[5]

等离子体反应室用硅部件 [P].

任大星 ;

杰罗姆·S·休贝塞克 ;

尼古拉斯·E·韦伯 .

中国专利 :CN101241845A ,2008-08-13

[6]

等离子体反应室用硅部件 [P].

任大星 ;

杰罗姆·S·休贝塞克 ;

尼古拉斯·E·韦伯 .

中国专利 :CN1653589A ,2005-08-10

[7]

等离子体反应室的干式清洁方法 [P].

郑朝云 ;

郭行健 ;

庄智强 ;

吴淑芬 .

中国专利 :CN1231300C ,2004-06-23

[8]

等离子体反应腔 [P].

聂淼 .

中国专利 :CN103811258A ,2014-05-21

[9]

等离子体反应腔 [P].

江坤盛 ;

林志明 ;

邱志勤 ;

范和安 ;

郑有青 .

中国专利 :CN100389225C ,2006-06-14

[10]

等离子体反应机台 [P].

杨总胜 ;

王春盛 ;

江舜彦 .

中国专利 :CN102856151B ,2013-01-02

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