高可靠性深沟槽功率MOS器件

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201821077743.9
申请日
2018-07-09
公开(公告)号
CN208835068U
公开(公告)日
2019-05-07
发明(设计)人
黄彦智 陆佳顺 杨洁雯
申请人
申请人地址
215126 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城NW20幢501室
IPC主分类号
H01L2978
IPC分类号
H01L2906
代理机构
苏州创元专利商标事务所有限公司 32103
代理人
马明渡;王健
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
高可靠性深沟槽功率MOS器件 [P]. 
黄彦智 ;
陆佳顺 ;
杨洁雯 .
中国专利 :CN109103257A ,2018-12-28
[2]
深沟槽功率MOS器件 [P]. 
黄彦智 ;
陆佳顺 ;
杨洁雯 .
中国专利 :CN208045510U ,2018-11-02
[3]
高可靠性沟槽型半导体MOS器件 [P]. 
黄彦智 ;
陆佳顺 ;
杨洁雯 .
中国专利 :CN208045511U ,2018-11-02
[4]
高可靠性沟槽功率MOS晶体管 [P]. 
黄彦智 ;
俞仲威 .
中国专利 :CN213583802U ,2021-06-29
[5]
低漏电流深沟槽功率MOS器件 [P]. 
黄彦智 ;
陆佳顺 ;
杨洁雯 .
中国专利 :CN208045509U ,2018-11-02
[6]
高可靠性垂直功率MOS器件 [P]. 
陈译 ;
陆佳顺 ;
杨洁雯 .
中国专利 :CN212161821U ,2020-12-15
[7]
高可靠性超结功率器件 [P]. 
朱袁正 ;
叶鹏 ;
周锦程 ;
李宗清 .
中国专利 :CN216597593U ,2022-05-24
[8]
深沟槽功率MOS半导体器件 [P]. 
黄彦智 ;
俞仲威 .
中国专利 :CN213583800U ,2021-06-29
[9]
超高元胞密度深沟槽功率MOS器件 [P]. 
朱袁正 ;
秦旭光 ;
丁磊 .
中国专利 :CN202384343U ,2012-08-15
[10]
高可靠性功率器件 [P]. 
何洪运 ;
郝艳霞 ;
刘玉龙 ;
沈加勇 .
中国专利 :CN208538826U ,2019-02-22