蒸发源及真空蒸镀系统

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201911198154.5
申请日
2019-11-29
公开(公告)号
CN110777334B
公开(公告)日
2020-02-11
发明(设计)人
邹清华 黄俊淞
申请人
申请人地址
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
IPC主分类号
C23C1426
IPC分类号
C23C1404 C23C1412
代理机构
北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138
代理人
杨广宇
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
蒸发源及真空蒸镀系统 [P]. 
阿力甫·库提鲁克 ;
梅新灵 ;
陈亚男 ;
洪巍 ;
方农华 .
中国专利 :CN114481039A ,2022-05-13
[2]
蒸发源及蒸镀系统 [P]. 
胡长奇 ;
苏志玮 .
中国专利 :CN107400858A ,2017-11-28
[3]
真空蒸镀用蒸发源 [P]. 
魏洋 ;
魏浩明 ;
姜开利 ;
范守善 .
中国专利 :CN106676477B ,2017-05-17
[4]
真空蒸镀装置用蒸发源及具备该蒸发源的真空蒸镀装置 [P]. 
深尾万里 ;
关根元气 .
日本专利 :CN118407003A ,2024-07-30
[5]
真空蒸镀用蒸发源,真空蒸镀装置及方法 [P]. 
魏洋 ;
范守善 .
中国专利 :CN107267924A ,2017-10-20
[6]
线性蒸发源、蒸发源系统及蒸镀装置 [P]. 
王卫卫 ;
李俊峰 ;
何麟 .
中国专利 :CN108754448A ,2018-11-06
[7]
电弧蒸发源及真空蒸镀装置 [P]. 
小泉康浩 ;
能势功一 .
中国专利 :CN101448969A ,2009-06-03
[8]
真空蒸镀设备及蒸发源装置 [P]. 
黄春泉 ;
周文炎 ;
邹以慧 ;
包立强 ;
丁度泽 .
中国专利 :CN208776823U ,2019-04-23
[9]
真空蒸镀装置用的蒸发源 [P]. 
木本孝仁 ;
安田仁 ;
仓内利春 ;
佐佐木俊介 .
日本专利 :CN118531356A ,2024-08-23
[10]
蒸发源以及使用该蒸发源的真空蒸镀装置 [P]. 
小田敦 ;
小林敏郎 ;
佐藤惠一 ;
北本博子 ;
神川进 ;
和田宏三 .
中国专利 :CN101182627B ,2008-05-21