一种非平衡磁控溅射离子镀磁场闭合状态控制方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210474290.4

申请日：

2012-11-20

公开(公告)号：

CN103834922A

公开(公告)日：

2014-06-04

发明(设计)人：

虞建忠

申请人：

申请人地址：

313012 浙江省湖州市南浔区双林镇巷门里2号

IPC主分类号：

C23C1432

IPC分类号：

C23C1435 C23C1454

代理机构：

杭州新源专利事务所(普通合伙) 33234

代理人：

李大刚

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-07-06	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101735284689 IPC(主分类):C23C 14/32 专利申请号:2012104742904 申请公布日:20140604
2014-06-04	公开	公开

共 50 条

[1]

非平衡闭合场磁控溅射离子镀设备 [P].

文晓斌 ;

栾亚 .

中国专利 :CN202643827U ,2013-01-02

[2]

非平衡闭合场磁控溅射离子镀设备 [P].

文晓斌 ;

栾亚 .

中国专利 :CN102677011B ,2012-09-19

[3]

轴承滚柱非平衡磁控溅射离子镀装置 [P].

刘长明 ;

陈玲芳 .

中国专利 :CN203999795U ,2014-12-10

[4]

轴承滚柱非平衡磁控溅射离子镀装置及方法 [P].

刘长明 ;

陈玲芳 .

中国专利 :CN104328380A ,2015-02-04

[5]

闭合磁场非平衡磁控溅射镀膜设备 [P].

金广福 .

中国专利 :CN102653857A ,2012-09-05

[6]

一种磁控溅射离子镀方法 [P].

郭丽芬 ;

钟源 ;

宫清 .

中国专利 :CN100560788C ,2008-06-04

[7]

一种闭合磁场非平衡磁控溅射镀膜设备 [P].

金广福 .

中国专利 :CN202643826U ,2013-01-02

[8]

一种基于闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备梯度Ti-DLC复合自润滑薄膜的方法 [P].

闫牧夫 ;

张诗东 ;

张雁祥 ;

闫扶摇 .

中国专利 :CN118166324A ,2024-06-11

[9]

一种非平衡磁控溅射镀钽装置 [P].

陈光英 ;

王国华 ;

宋坤 ;

刘江 .

中国专利 :CN216808951U ,2022-06-24

[10]

一种磁控溅射离子镀双层膜用炉 [P].

马晓明 .

中国专利 :CN204779791U ,2015-11-18

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