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半导体部件布置、制造半导体部件布置的方法和散热装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201980068203.5
申请日
:
2019-10-08
公开(公告)号
:
CN112805828A
公开(公告)日
:
2021-05-14
发明(设计)人
:
D·巴冈
C·奎斯特-马特
T·里普尔
D·沃尔夫
申请人
:
申请人地址
:
德国汉诺威
IPC主分类号
:
H01L23498
IPC分类号
:
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
:
刘茜;司昆明
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-06-01
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 23/498 申请日:20191008
2021-05-14
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体部件布置、制造半导体部件布置的方法和散热装置
[P].
D·巴冈
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
纬湃科技有限责任公司
纬湃科技有限责任公司
D·巴冈
;
C·奎斯特-马特
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机构:
纬湃科技有限责任公司
纬湃科技有限责任公司
C·奎斯特-马特
;
T·里普尔
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机构:
纬湃科技有限责任公司
纬湃科技有限责任公司
T·里普尔
;
D·沃尔夫
论文数:
0
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0
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机构:
纬湃科技有限责任公司
纬湃科技有限责任公司
D·沃尔夫
.
德国专利
:CN112805828B
,2024-07-19
[2]
制造半导体部件的方法和半导体部件
[P].
V·莱曼
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0
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V·莱曼
;
A·舒伯特
论文数:
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A·舒伯特
.
中国专利
:CN1395314A
,2003-02-05
[3]
半导体部件和制造半导体部件的方法
[P].
奥利弗·黑贝伦
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奥利弗·黑贝伦
;
杰拉尔德·拉克纳
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杰拉尔德·拉克纳
;
安东·毛德
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安东·毛德
.
中国专利
:CN102790017A
,2012-11-21
[4]
用于半导体布置的结构和制造半导体布置的方法
[P].
保卢斯·C·杜因费尔德
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保卢斯·C·杜因费尔德
;
格温·H·格林克
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格温·H·格林克
.
中国专利
:CN1791965B
,2006-06-21
[5]
半导体部件以及半导体部件的制造方法
[P].
A·梅瑟
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A·梅瑟
;
W·哈特纳
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W·哈特纳
;
H·格鲁伯
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H·格鲁伯
;
D·博纳特
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D·博纳特
;
T·格罗斯
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T·格罗斯
.
中国专利
:CN101097919B
,2008-01-02
[6]
半导体部件和生产半导体部件的方法
[P].
斯文·贝尔贝里希
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斯文·贝尔贝里希
;
伯恩哈德·柯尼格
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伯恩哈德·柯尼格
;
沃尔夫冈-米歇尔·舒尔茨
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沃尔夫冈-米歇尔·舒尔茨
.
中国专利
:CN112670271A
,2021-04-16
[7]
半导体装置的制造方法、半导体装置及半导体部件
[P].
豊岛刚树
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
豊岛刚树
;
竹越正明
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
竹越正明
;
畠山惠一
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
畠山惠一
.
日本专利
:CN121039804A
,2025-11-28
[8]
半导体装置、半导体部件以及半导体装置的制造方法
[P].
指田和之
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指田和之
;
山地瑞枝
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山地瑞枝
;
吉田贤一
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吉田贤一
;
铃木健一
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铃木健一
;
九里伸治
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九里伸治
.
中国专利
:CN111448463B
,2020-07-24
[9]
半导体布置
[P].
S·D·哈特
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S·D·哈特
;
T·伍尔默
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T·伍尔默
;
C·S·马拉姆
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C·S·马拉姆
;
T·希尔曼
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T·希尔曼
;
R·菲利普斯
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R·菲利普斯
.
中国专利
:CN110520982A
,2019-11-29
[10]
半导体部件、组合体以及半导体部件的制造方法
[P].
铃木健一
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铃木健一
;
指田和之
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指田和之
;
山地瑞枝
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山地瑞枝
;
吉田贤一
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吉田贤一
;
九里伸治
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九里伸治
.
中国专利
:CN111373271B
,2020-07-03
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