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泡沫氮化镓及其制作方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201610224132.1
申请日
:
2016-04-12
公开(公告)号
:
CN107285798B
公开(公告)日
:
2017-10-24
发明(设计)人
:
潘革波
秦双娇
彭飞
陈雪晴
申请人
:
申请人地址
:
215123 江苏省苏州市苏州工业园区若水路398号
IPC主分类号
:
H01L3322
IPC分类号
:
C04B3800
C04B3558
代理机构
:
深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304
代理人
:
孙伟峰
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-10-24
公开
公开
2017-11-24
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C04B 38/00 申请日:20160412
2020-11-06
授权
授权
共 50 条
[1]
氮化镓半导体器件及其制作方法
[P].
李东键
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李东键
;
金荣善
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金荣善
;
金权济
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金权济
;
骆薇薇
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骆薇薇
;
孙在亨
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孙在亨
.
中国专利
:CN108428741B
,2018-08-21
[2]
氮化镓基板的制作方法
[P].
曾坚信
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曾坚信
.
中国专利
:CN102610705A
,2012-07-25
[3]
氮化镓器件制作方法及氮化镓器件
[P].
邹鹏辉
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邹鹏辉
;
林志东
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林志东
;
刘胜厚
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刘胜厚
;
卢益锋
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卢益锋
;
蔡仙清
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蔡仙清
;
许若华
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许若华
;
杨健
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杨健
.
中国专利
:CN110112068B
,2019-08-09
[4]
氮化镓半导体功率器件及其制作方法
[P].
张铭宏
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机构:
珠海镓未来科技有限公司
珠海镓未来科技有限公司
张铭宏
;
郭超凡
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珠海镓未来科技有限公司
珠海镓未来科技有限公司
郭超凡
;
王中党
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机构:
珠海镓未来科技有限公司
珠海镓未来科技有限公司
王中党
;
高吴昊
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机构:
珠海镓未来科技有限公司
珠海镓未来科技有限公司
高吴昊
.
中国专利
:CN119153322B
,2025-01-14
[5]
氮化镓半导体功率器件及其制作方法
[P].
张铭宏
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机构:
珠海镓未来科技有限公司
珠海镓未来科技有限公司
张铭宏
;
郭超凡
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机构:
珠海镓未来科技有限公司
珠海镓未来科技有限公司
郭超凡
;
王中党
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机构:
珠海镓未来科技有限公司
珠海镓未来科技有限公司
王中党
;
高吴昊
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机构:
珠海镓未来科技有限公司
珠海镓未来科技有限公司
高吴昊
.
中国专利
:CN119153322A
,2024-12-17
[6]
氮化镓基半导体器件及其制作方法
[P].
林科闯
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林科闯
;
房育涛
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房育涛
;
刘波亭
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刘波亭
;
毛张文
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毛张文
;
李健
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李健
;
张恺玄
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张恺玄
;
杨健
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杨健
.
中国专利
:CN110600547B
,2019-12-20
[7]
氮化镓器件台面的制作方法
[P].
张鹏
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张鹏
;
陆书龙
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陆书龙
;
杨文献
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杨文献
;
顾颖
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顾颖
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邱海兵
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邱海兵
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张雪
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张雪
.
中国专利
:CN114883455A
,2022-08-09
[8]
氮化镓衬底及其制作方法以及半导体器件的制作方法
[P].
王瑞
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
王瑞
;
王彦彬
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
王彦彬
;
敖辉
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东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
敖辉
;
庄文荣
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东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
庄文荣
;
颜建锋
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
颜建锋
.
中国专利
:CN119673763A
,2025-03-21
[9]
氮化镓衬底及其制作方法以及半导体器件的制作方法
[P].
王瑞
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
王瑞
;
王彦彬
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
王彦彬
;
敖辉
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
敖辉
;
庄文荣
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
庄文荣
;
颜建锋
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
颜建锋
.
中国专利
:CN119673763B
,2025-12-05
[10]
自支撑氮化镓层及其制作方法
[P].
刘仁锁
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刘仁锁
;
王颖慧
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王颖慧
;
特洛伊·乔纳森·贝克
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特洛伊·乔纳森·贝克
;
罗晓菊
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罗晓菊
.
中国专利
:CN111218643A
,2020-06-02
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