等离子体PTC薄膜涂布机

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201420052369.2

申请日：

2014-01-27

公开(公告)号：

CN203683644U

公开(公告)日：

2014-07-02

发明(设计)人：

张迎晨

申请人：

申请人地址：

451191 河南省郑州市新郑双湖经济开发区淮河路1号

IPC主分类号：

C23C410

IPC分类号：

代理机构：

郑州优盾知识产权代理有限公司 41125

代理人：

张绍琳;孙诗雨

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-07-02	授权	授权
2019-01-11	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 4/10 申请日:20140127 授权公告日:20140702 终止日期:20180127

共 50 条

[1]

静电PTC薄膜涂布机 [P].

张迎晨 .

中国专利 :CN203678562U ,2014-07-02

[2]

等离子体涂布方法 [P].

C·M·魏克特 ;

T·史密斯 .

中国专利 :CN101039993A ,2007-09-19

[3]

等离子体沉积装置 [P].

孟杰 ;

胡广严 ;

吴孝哲 ;

吴龙江 ;

林宗贤 .

中国专利 :CN208949405U ,2019-06-07

[4]

等离子体薄膜沉积装置 [P].

叶继春 ;

邬苏东 ;

高平奇 ;

杨映虎 ;

韩灿 .

中国专利 :CN203999809U ,2014-12-10

[5]

等离子体产生组件及等离子体处理装置 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN210984687U ,2020-07-10

[6]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

岩井哲博 ;

古川良太 .

中国专利 :CN1175477C ,2002-11-20

[7]

微波等离子体薄膜沉积装置 [P].

王群 ;

卫博 ;

唐章宏 ;

王明连 ;

金鑫 ;

李永卿 .

中国专利 :CN212270234U ,2021-01-01

[8]

一种薄膜涂布机的涂布机构 [P].

王菲 .

中国专利 :CN214637473U ,2021-11-09

[9]

等离子体约束装置及等离子体处理装置 [P].

傅时梁 ;

杨金全 ;

王枫 .

中国专利 :CN212461598U ,2021-02-02

[10]

等离子体单元以及制造等离子体单元的方法 [P].

D.梅因霍尔德 .

中国专利 :CN103247502A ,2013-08-14

← 1 2 3 4 5 →