一种电弧离子镀CN薄膜的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010522818.1

申请日：

2010-10-26

公开(公告)号：

CN101962747A

公开(公告)日：

2011-02-02

发明(设计)人：

马占吉赵栋才武生虎肖更竭任妮

申请人：

申请人地址：

730000 甘肃省兰州市94号信箱

IPC主分类号：

C23C1406

IPC分类号：

C23C1446

代理机构：

北京理工大学专利中心 11120

代理人：

张利萍

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-02-02	公开	公开
2011-12-07	授权	授权
2011-03-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101059289415 IPC(主分类):C23C 14/06 专利申请号:2010105228181 申请日:20101026

共 50 条

[1]

采用电弧离子镀技术在聚四氟乙烯表面镀导电薄膜的方法 [P].

马占吉 ;

肖更竭 ;

武生虎 ;

赵栋才 ;

任妮 .

中国专利 :CN101962748A ,2011-02-02

[2]

一种电弧离子镀生产方法 [P].

钱会燕 .

中国专利 :CN104313539A ,2015-01-28

[3]

一种电弧离子镀引弧装置 [P].

朱豪威 ;

郎文昌 ;

赵嘉豪 ;

钟一骅 .

中国专利 :CN212505042U ,2021-02-09

[4]

电弧离子镀设备 [P].

玉垣浩 ;

藤井博文 ;

冲本忠雄 ;

宫本僚次 .

中国专利 :CN1952205B ,2007-04-25

[5]

电弧离子镀装置 [P].

仙北屋和明 ;

田中裕介 .

中国专利 :CN102650041A ,2012-08-29

[6]

一种电弧离子镀设备的双靶结构 [P].

蒋孝文 ;

刘朋 .

中国专利 :CN217839108U ,2022-11-18

[7]

一种中心进气的电弧离子镀装置 [P].

郎文昌 ;

刘伟 ;

陈智杰 ;

黄志宏 .

中国专利 :CN213113472U ,2021-05-04

[8]

一种用于电弧离子镀的多层旋转架 [P].

刘浩 ;

杨良兴 .

中国专利 :CN223357732U ,2025-09-19

[9]

一种电弧离子镀设备 [P].

杜昊 ;

赵彦辉 ;

肖金泉 ;

宋贵宏 ;

熊天英 .

中国专利 :CN202072760U ,2011-12-14

[10]

一种电弧离子镀设备 [P].

杜昊 ;

赵彦辉 ;

肖金泉 ;

宋贵宏 ;

熊天英 .

中国专利 :CN102758186B ,2012-10-31

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