浸润式光刻的方法及其处理系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610100019.9

申请日：

2006-06-29

公开(公告)号：

CN1892436A

公开(公告)日：

2007-01-10

发明(设计)人：

张庆裕游大庆林进祥

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹市

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F726 H01L2100

代理机构：

隆天国际知识产权代理有限公司

代理人：

陈晨

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-09-05	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101450535289 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2006101000199 公开日:20070110
2007-01-10	公开	公开
2007-03-07	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

浸润式光刻的方法及其处理系统 [P].

张庆裕 ;

游大庆 ;

林进祥 .

中国专利 :CN102540761B ,2012-07-04

[2]

浸润式光刻的方法及其处理方法 [P].

张庆裕 ;

游大庆 .

中国专利 :CN100461004C ,2007-02-21

[3]

浸润式光刻系统 [P].

杨育佳 ;

林本坚 ;

胡正明 .

中国专利 :CN2746425Y ,2005-12-14

[4]

机械产品浸润处理系统 [P].

刘洪 .

中国专利 :CN106622849A ,2017-05-10

[5]

浸润光刻系统、图案化半导体集成电路的浸润光刻方法 [P].

傅中其 ;

徐树彬 ;

张秀玉 .

中国专利 :CN101075095B ,2007-11-21

[6]

浸润式光刻机曝光方法 [P].

李玉华 ;

黄发彬 ;

周曙亮 ;

赵潞明 ;

吴长明 ;

姚振海 ;

金乐群 .

中国专利 :CN113204175A ,2021-08-03

[7]

机械加工产品浸润处理系统 [P].

胡永发 .

中国专利 :CN106609376A ,2017-05-03

[8]

汽车产品浸润处理系统 [P].

汪宁萍 .

中国专利 :CN106622848A ,2017-05-10

[9]

流体处理系统、方法以及光刻装置 [P].

C·W·J·贝伦德森 ;

E·H·E·C·尤梅伦 ;

C·M·洛普斯 ;

G·L·加托比吉奥 ;

E·德容 .

:CN119301524A ,2025-01-10

[10]

流体处理系统、方法和光刻设备 [P].

K·G·温克尔斯 ;

C·W·J·贝伦德森 ;

T·W·图克尔 .

:CN120266062A ,2025-07-04

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