一种纳米压印光刻装置及其方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310447608.4

申请日：

2013-09-26

公开(公告)号：

CN103488046B

公开(公告)日：

2014-01-01

发明(设计)人：

袁伟

申请人：

申请人地址：

201210 上海市浦东新区浦东张江高斯路497号

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

代理机构：

上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275

代理人：

吴世华;林彦之

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-12-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101638217626 IPC(主分类):G03F 7/00 专利申请号:2013104476084 申请日:20130926
2019-10-22	授权	授权
2014-01-01	公开	公开

共 50 条

[1]

纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

陈廷忠 ;

周兴 ;

王兆民 .

中国专利 :CN119024644A ,2024-11-26

[2]

纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

陈廷忠 ;

周兴 ;

王兆民 .

中国专利 :CN119024644B ,2025-10-28

[3]

一种简易紫外纳米压印光刻装置 [P].

兰俊 ;

刘锡 ;

杨勇 ;

陈磊 ;

余斯洋 ;

龚健文 ;

赵立新 ;

胡松 .

中国专利 :CN113031391A ,2021-06-25

[4]

一种制造深度差异结构的纳米压印光刻方法 [P].

王春慧 ;

邵金友 ;

范瑜 ;

马昊辉 .

中国专利 :CN118295207A ,2024-07-05

[5]

一种纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

万春旭 ;

张至 ;

程鑫 ;

孙大陟 .

中国专利 :CN105353587A ,2016-02-24

[6]

一种纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

李树白 ;

姚培 ;

张启蒙 ;

刘媛 ;

周敏茹 ;

周海浪 ;

杨天宝 ;

花佳淋 .

中国专利 :CN110989297A ,2020-04-10

[7]

一种提高纳米压印胶粘附性的纳米压印子版基片及其制备方法和纳米压印方法 [P].

罗先刚 ;

李玲 ;

田明阳 ;

张珂 ;

刘航 ;

谢驰 ;

王茂 ;

郑杰 ;

王琦锋 .

中国专利 :CN118244575A ,2024-06-25

[8]

一种新型倒扣挤压式纳米压印光刻方法 [P].

曹元勋 ;

杨志伟 ;

马大永 ;

李海铭 ;

张杰 ;

于天硕 ;

张迪 .

中国专利 :CN120630586A ,2025-09-12

[9]

用于纳米压印工艺的光刻胶及其制备方法和应用 [P].

孙逊运 ;

张盼 ;

温赞伟 ;

李巧玲 .

中国专利 :CN114690563B ,2025-01-21

[10]

用于纳米压印工艺的光刻胶及其制备方法和应用 [P].

孙逊运 ;

张盼 ;

温赞伟 ;

李巧玲 .

中国专利 :CN114690563A ,2022-07-01

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