一种PERC电池背抛光添加剂及工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911197379.9

申请日：

2019-11-29

公开(公告)号：

CN110922970A

公开(公告)日：

2020-03-27

发明(设计)人：

翟伟俊管自生万鹏

申请人：

申请人地址：

211100 江苏省南京市江宁滨江开发区地秀路778号

IPC主分类号：

C09K1302

IPC分类号：

H01L3118

代理机构：

北京挺立专利事务所(普通合伙) 11265

代理人：

石磊

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-03-27	公开	公开
2022-06-03	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C09K 13/02 申请公布日:20200327
2020-04-21	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09K 13/02 申请日:20191129

共 50 条

[1]

一种PERC电池酸抛光添加剂及工艺 [P].

翟伟俊 ;

管自生 ;

万鹏 .

中国专利 :CN111057468A ,2020-04-24

[2]

一种PERC电池碱抛光添加剂制备方法 [P].

翟伟俊 ;

彭晓晨 .

中国专利 :CN111560249A ,2020-08-21

[3]

一种太阳能电池制备碱抛光用添加剂及抛光工艺 [P].

杨二存 ;

赵小平 ;

刘海金 ;

顾生刚 ;

江中强 .

中国专利 :CN112111279A ,2020-12-22

[4]

一种改善单晶硅碱抛光外观问题的添加剂及其抛光工艺 [P].

常帅锋 ;

陈心浩 ;

吴家阳 ;

周浩 ;

彭丽 ;

王涛 ;

韩军 .

中国专利 :CN114316804A ,2022-04-12

[5]

一种单晶硅片背抛光用添加剂及其应用 [P].

马洁 ;

许秀典 ;

章圆圆 ;

陈培良 .

中国专利 :CN114634766A ,2022-06-17

[6]

一种单晶硅片背抛光用添加剂及其应用 [P].

马洁 ;

许秀典 ;

章圆圆 ;

陈培良 .

中国专利 :CN114634766B ,2024-02-13

[7]

一种PERC电池背面抛光工艺 [P].

王飞 ;

黄海涛 ;

侯如钟 .

中国专利 :CN109887841B ,2019-06-14

[8]

一种单晶碱抛光添加剂、抛光液及抛光方法 [P].

蒋旭东 ;

朱进 ;

蒋良平 .

中国专利 :CN113322008A ,2021-08-31

[9]

一种晶体硅碱抛光添加剂及使用方法 [P].

华永云 ;

杜雪峰 .

中国专利 :CN113122148A ,2021-07-16

[10]

一种PERC电池背表面的抛光方法 [P].

陈玉伟 ;

唐惠东 ;

陈小卉 ;

李龙珠 ;

杨蓉 ;

徐立波 .

中国专利 :CN109904282A ,2019-06-18

← 1 2 3 4 5 →