一种制作FinFET半导体器件的方法

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专利类型
发明
申请号
CN201310335581.X
申请日
2013-08-02
公开(公告)号
CN104347413A
公开(公告)日
2015-02-11
发明(设计)人
肖德元
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
H01L2978
代理机构
北京市磐华律师事务所 11336
代理人
董巍;高伟
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
制作半导体器件的方法 [P]. 
韩秋华 .
中国专利 :CN103165461B ,2013-06-19
[2]
一种制作半导体器件的方法 [P]. 
张海洋 ;
王冬江 .
中国专利 :CN104183536A ,2014-12-03
[3]
一种FinFET半导体器件的制备方法 [P]. 
黄秋铭 .
中国专利 :CN105225963B ,2016-01-06
[4]
制作半导体器件的方法 [P]. 
高大为 ;
三重野文健 .
中国专利 :CN102005372A ,2011-04-06
[5]
一种制作半导体器件的方法 [P]. 
王刚宁 ;
戴执中 ;
冯喆韻 ;
贺吉伟 ;
浦贤勇 .
中国专利 :CN104576503A ,2015-04-29
[6]
一种制作半导体器件的方法 [P]. 
韩秋华 .
中国专利 :CN104241193A ,2014-12-24
[7]
一种制作半导体器件的方法 [P]. 
王辉 .
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[8]
一种制作半导体器件的方法 [P]. 
赵杰 ;
宋伟基 .
中国专利 :CN104779148B ,2015-07-15
[9]
一种制作半导体器件的方法 [P]. 
李敏 .
中国专利 :CN104517884A ,2015-04-15
[10]
一种制作半导体器件的方法 [P]. 
倪梁 ;
汪新学 ;
伏广才 .
中国专利 :CN105336669B ,2016-02-17