一种电解铜箔电解液分散装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201721239095.8

申请日：

2017-09-26

公开(公告)号：

CN207276750U

公开(公告)日：

2018-04-27

发明(设计)人：

解祥生马秀玲祁善龙王琳李永贞尹卫华李梓铭武静帮

申请人：

申请人地址：

810010 青海省西宁市城东区八一东路5号

IPC主分类号：

C25D104

IPC分类号：

代理机构：

北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350

代理人：

刘振

法律状态：

授权

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-04-27	授权	授权

共 50 条

[1]

一种电解铜箔电解液抽样检测装置 [P].

万新领 ;

黄玉泉 ;

成天耀 ;

欧宗炬 .

中国专利 :CN222599260U ,2025-03-11

[2]

电解液供应装置及电解铜箔制造装置 [P].

金相裕 ;

崔玹彰 .

中国专利 :CN208038572U ,2018-11-02

[3]

一种电解铜箔的电解液添加剂、电解液、电解铜箔及其制备方法 [P].

胡浩 ;

宋克兴 ;

代明伟 ;

程浩艳 ;

张彦敏 .

中国专利 :CN113481551B ,2021-10-08

[4]

一种电解铜箔用电解液更换装置 [P].

张永军 ;

林培楷 ;

任国栋 ;

王有仁 ;

付志煜 ;

艾灵儿 .

中国专利 :CN118756264A ,2024-10-11

[5]

一种电解铜箔用电解液生产装置 [P].

毛伟鸿 .

中国专利 :CN214106940U ,2021-09-03

[6]

电解液、电解铜箔及其制造方法 [P].

邹明仁 ;

黄金城 ;

林士晴 .

中国专利 :CN108505076B ,2018-09-07

[7]

用于制造电解铜箔的电解液 [P].

花房干夫 .

中国专利 :CN101978100A ,2011-02-16

[8]

用于电解铜箔生产的电解液液位控制装置 [P].

叶敬敏 ;

叶铭 .

中国专利 :CN202755079U ,2013-02-27

[9]

一种电解铜箔生产用电解液自吸装置 [P].

温增勇 ;

夏洁 ;

熊雅 ;

黄平娜 ;

谢传毅 ;

郭桂良 .

中国专利 :CN204111877U ,2015-01-21

[10]

一种超低轮廓电解铜箔用添加剂、电解液、电解铜箔制备工艺、电解铜箔及电解铜箔的应用 [P].

李远泰 ;

钟伟彬 ;

潘光华 ;

房文洁 ;

谢贤超 ;

林健 ;

魏福莹 .

中国专利 :CN119530905A ,2025-02-28

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