半导体器件的制造装置及制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN99801585.7
申请日
1999-09-13
公开(公告)号
CN1277735A
公开(公告)日
2000-12-20
发明(设计)人
能泽克弥 久保实 斋藤彻 高木刚
申请人
申请人地址
日本国大阪府
IPC主分类号
H01L21205
IPC分类号
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司
代理人
汪惠民
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件、半导体器件的制造方法及半导体器件的制造装置 [P]. 
早水勋 ;
立柳昌哉 .
中国专利 :CN101471537B ,2009-07-01
[2]
半导体器件的制造方法及半导体器件的制造装置 [P]. 
李文超 ;
林政纬 ;
杨智强 ;
贾涛 .
中国专利 :CN119965137A ,2025-05-09
[3]
半导体器件的制造方法及半导体器件的制造装置 [P]. 
李文超 ;
林政纬 ;
杨智强 ;
贾涛 .
中国专利 :CN119965137B ,2025-07-22
[4]
半导体器件的制造装置及半导体器件的制造方法 [P]. 
中村理 ;
伊藤恭介 .
中国专利 :CN101013674A ,2007-08-08
[5]
半导体器件的制造方法及制造装置 [P]. 
松井弘之 ;
牧野豊 ;
芥川泰人 .
中国专利 :CN101512741A ,2009-08-19
[6]
半导体器件的制造装置及制造方法 [P]. 
芝田元二郎 ;
牛岛彰 .
中国专利 :CN101266920A ,2008-09-17
[7]
半导体制造装置及半导体器件的制造方法 [P]. 
高野晴之 ;
牧浩 .
中国专利 :CN109671646A ,2019-04-23
[8]
半导体制造装置及半导体器件的制造方法 [P]. 
甲斐丈靖 ;
马场裕之 .
中国专利 :CN101445919B ,2009-06-03
[9]
半导体制造装置及半导体器件的制造方法 [P]. 
横森刚 ;
名久井勇辉 .
中国专利 :CN108346585A ,2018-07-31
[10]
半导体制造装置及半导体器件的制造方法 [P]. 
名久井勇辉 ;
冈本直树 ;
齐藤明 ;
横森刚 ;
二宫勇 .
中国专利 :CN108400096A ,2018-08-14