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半导体器件及其结边缘区
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201922344952.6
申请日
:
2019-12-24
公开(公告)号
:
CN211480034U
公开(公告)日
:
2020-09-11
发明(设计)人
:
杜文芳
申请人
:
申请人地址
:
210000 江苏省南京市浦口区江浦街道浦口大道1号新城总部大厦506-1室
IPC主分类号
:
H01L2906
IPC分类号
:
代理机构
:
北京汇泽知识产权代理有限公司 11228
代理人
:
亓赢
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-09-11
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体器件及其结边缘区
[P].
杜文芳
论文数:
0
引用数:
0
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0
杜文芳
.
中国专利
:CN111697062A
,2020-09-22
[2]
半导体器件及其结边缘区
[P].
杜文芳
论文数:
0
引用数:
0
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0
杜文芳
.
中国专利
:CN210984729U
,2020-07-10
[3]
半导体器件及其结边缘区
[P].
杜文芳
论文数:
0
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0
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0
杜文芳
.
中国专利
:CN110556427A
,2019-12-10
[4]
包括注入区的超级结半导体器件
[P].
F·希尔勒
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0
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0
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0
F·希尔勒
;
W·凯因德尔
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W·凯因德尔
;
H-J·舒尔策
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H-J·舒尔策
;
U·瓦尔
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U·瓦尔
;
A·威尔梅洛斯
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0
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0
A·威尔梅洛斯
.
中国专利
:CN103996700A
,2014-08-20
[5]
包括存储区和边缘区的超结半导体器件
[P].
弗朗茨·赫尔莱尔
论文数:
0
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0
弗朗茨·赫尔莱尔
;
汉斯-约阿希姆·舒尔茨
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汉斯-约阿希姆·舒尔茨
;
乌韦·瓦尔
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乌韦·瓦尔
;
汉斯·韦伯
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汉斯·韦伯
.
中国专利
:CN103531611A
,2014-01-22
[6]
超级结半导体器件
[P].
朱超群
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朱超群
;
陈宇
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陈宇
.
中国专利
:CN204289463U
,2015-04-22
[7]
用于形成半导体器件杂质结区的方法
[P].
李古镐
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李古镐
.
中国专利
:CN1079165C
,1997-01-15
[8]
半导体器件及其制造方法
[P].
新宅秀臣
论文数:
0
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新宅秀臣
.
中国专利
:CN1241805A
,2000-01-19
[9]
半导体器件及其制备方法
[P].
陈世杰
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陈世杰
;
黄晓橹
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黄晓橹
.
中国专利
:CN107768393A
,2018-03-06
[10]
超结半导体器件及其制造方法
[P].
童亮
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童亮
.
中国专利
:CN105489498A
,2016-04-13
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