一种铬硅合金溅射靶材的制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011217394.8

申请日：

2020-11-04

公开(公告)号：

CN112376023A

公开(公告)日：

2021-02-19

发明(设计)人：

姚力军边逸军潘杰王学泽杨慧珍

申请人：

申请人地址：

315400 浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C22C2706 C22C105

代理机构：

北京远智汇知识产权代理有限公司 11659

代理人：

王岩

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-02-19	公开	公开
2021-03-09	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20201104

共 50 条

[1]

一种铬硅合金溅射靶材及其制备方法 [P].

姚力军 ;

潘杰 ;

边逸军 ;

王学泽 ;

杨慧珍 .

中国专利 :CN113770360A ,2021-12-10

[2]

一种铬硅合金溅射靶材的制备方法 [P].

姚力军 ;

潘杰 ;

杨慧珍 ;

廖培君 ;

黄东长 .

中国专利 :CN115110044A ,2022-09-27

[3]

一种铬硅合金溅射靶材的制备方法 [P].

姚力军 ;

边逸军 ;

潘杰 ;

王学泽 ;

杨慧珍 .

中国专利 :CN113073299B ,2021-07-06

[4]

一种铬硅合金溅射靶材及其制备方法 [P].

姚力军 ;

潘杰 ;

边逸军 ;

王学泽 ;

马国成 .

中国专利 :CN111058004A ,2020-04-24

[5]

一种铬硅溅射靶材的制备方法 [P].

姚力军 ;

边逸军 ;

潘杰 ;

王学泽 ;

李苛 .

中国专利 :CN111996507A ,2020-11-27

[6]

一种钽硅合金溅射靶材的制备方法 [P].

姚力军 ;

潘杰 ;

边逸军 ;

王学泽 ;

李岢 .

中国专利 :CN112030120A ,2020-12-04

[7]

一种钽硅合金溅射靶材的制备方法 [P].

姚力军 ;

潘杰 ;

周友平 ;

黄洁文 ;

吴东青 .

中国专利 :CN115537740A ,2022-12-30

[8]

一种铬镍合金溅射靶材及其制备方法与应用 [P].

姚力军 ;

边逸军 ;

潘杰 ;

王学泽 ;

李岢 .

中国专利 :CN112853283A ,2021-05-28

[9]

铬钽钛合金溅射靶材的制备方法、铬钽钛合金溅射靶材及应用 [P].

姚力军 ;

潘杰 ;

王学泽 ;

吴东青 .

中国专利 :CN108580905A ,2018-09-28

[10]

一种钨钛硅合金溅射靶材及其制备方法 [P].

姚力军 ;

边逸军 ;

潘杰 ;

王学泽 ;

黄东长 .

中国专利 :CN112111719B ,2020-12-22

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