一种硅片高温氧化设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202021816618.2

申请日：

2020-08-26

公开(公告)号：

CN212323007U

公开(公告)日：

2021-01-08

发明(设计)人：

崔水炜程建万肇勇吴章平

申请人：

申请人地址：

215000 江苏省苏州市苏州相城经济技术开发区漕湖街道漕湖大道48号1号楼

IPC主分类号：

H01L310216

IPC分类号：

H01L3118 H01L2102

代理机构：

无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260

代理人：

王春丽

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-01-08	授权	授权

共 50 条

[1]

一种硅片高温氧化工艺 [P].

崔水炜 ;

程建 ;

万肇勇 ;

吴章平 .

中国专利 :CN111916506A ,2020-11-10

[2]

一种新型硅片氧化设备 [P].

王振交 ;

艾凡凡 ;

韩培育 .

中国专利 :CN208422942U ,2019-01-22

[3]

一种链式高温氧化退火设备 [P].

左国军 ;

杜茂林 ;

李晶晶 ;

王锋 ;

张凯 ;

巩振江 ;

尹丽英 ;

赵俊 .

中国专利 :CN220526938U ,2024-02-23

[4]

一种硅片清洗槽 [P].

古元甲 ;

刘晓伟 ;

范猛 ;

李伟 ;

刘沛然 ;

孙昊 ;

孙毅 ;

田志民 ;

王少刚 ;

秦焱泽 ;

辛超 ;

石海涛 ;

赵朋占 .

中国专利 :CN207238646U ,2018-04-17

[5]

一种抗金属试样高温氧化设备 [P].

黄晓 ;

冯强 ;

郭燕宁 .

中国专利 :CN207689222U ,2018-08-03

[6]

一种硅片表面氧化的装置 [P].

陈伟 ;

孔群 ;

杨玉生 ;

姜春潮 .

中国专利 :CN206432239U ,2017-08-22

[7]

一种硅片去氧化层装置 [P].

朱亚文 ;

马勤明 .

中国专利 :CN209691728U ,2019-11-26

[8]

一种高温氧化炉 [P].

谢兴 .

中国专利 :CN202547378U ,2012-11-21

[9]

一种硅片清洗设备 [P].

叶敏 .

中国专利 :CN108417515B ,2018-08-17

[10]

一种硅片清洗设备 [P].

周磊 ;

段琳琳 ;

丁媛 ;

侯斌 .

中国专利 :CN222890263U ,2025-05-23

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