一种模拟化学气相沉积生长单层过渡金属硫化物的方法

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专利类型
发明
申请号
CN202011119208.7
申请日
2020-10-19
公开(公告)号
CN112342523B
公开(公告)日
2021-02-09
发明(设计)人
邵鹏 赵梓利 丁利苹 张辉 张方辉 雷涛 田董昀昊
申请人
申请人地址
710021 陕西省西安市未央区大学园区陕西科技大学
IPC主分类号
C23C1630
IPC分类号
C23C1652 C23C1656 C01G3906
代理机构
西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223
代理人
梁静
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种提高单层过渡金属硫化物材料发光性能的方法 [P]. 
姚慧珍 ;
陈龙龙 ;
张文静 ;
时玉萌 .
中国专利 :CN107313024B ,2017-11-03
[2]
过渡金属硫化物对电极的制备及应用 [P]. 
王育乔 ;
白一超 ;
杨大伟 ;
孙岳明 .
中国专利 :CN105845444A ,2016-08-10
[3]
一种化学气相沉积法构造半导体与金属硫化物异质电极的方法 [P]. 
许小勇 ;
赵恒 ;
潘楼 ;
王成忠 .
中国专利 :CN110629195A ,2019-12-31
[4]
基于两步可控制备过渡金属硫化物异质结的方法 [P]. 
王育乔 ;
刘亚娟 ;
刘美婷 ;
张春耀 ;
孙岳明 .
中国专利 :CN109767920B ,2019-05-17
[5]
一种单层过渡金属硫化物的制备方法 [P]. 
刘松 ;
刘航 .
中国专利 :CN111285402B ,2020-06-16
[6]
一种制备单层过渡金属二硫化物柔性光电探测器的方法 [P]. 
坚佳莹 ;
岳皎洁 ;
董芃凡 ;
骆磊 ;
白泽文 ;
常洪龙 ;
坚增运 .
中国专利 :CN110611012A ,2019-12-24
[7]
一种单层过渡金属硫化物的制备方法 [P]. 
谢黎明 ;
巩凡 .
中国专利 :CN110607561A ,2019-12-24
[8]
交替注入反应物生长单层和多层过渡金属硫化物的方法 [P]. 
张天宁 ;
陈鑫 ;
张克难 ;
俞伟伟 ;
孙艳 ;
戴宁 .
中国专利 :CN105800566A ,2016-07-27
[9]
一种生长单晶二维过渡金属硫化物的方法 [P]. 
邹贵付 ;
朱俊桐 ;
蒋怡宁 ;
戴晓 ;
赵杰 ;
易庆华 .
中国专利 :CN108455673A ,2018-08-28
[10]
一种制备单层二维过渡金属硫化物材料的方法 [P]. 
时玉萌 ;
李贺楠 ;
姚慧珍 ;
陈龙龙 .
中国专利 :CN108083339A ,2018-05-29