三维半导体结构的制作方法及三维半导体结构

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申请号
CN202011505918.3
申请日
2020-12-18
公开(公告)号
CN114649260A
公开(公告)日
2022-06-21
发明(设计)人
陈中怡
申请人
申请人地址
518109 广东省深圳市龙华新区观澜街道大三社区富士康观澜科技园B区厂房4栋、6栋、7栋、13栋(Ⅰ段)
IPC主分类号
H01L218234
IPC分类号
H01L27088
代理机构
深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334
代理人
林天成
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
三维半导体结构的制作方法及三维半导体结构 [P]. 
陈中怡 .
中国专利 :CN114649260B ,2025-02-18
[2]
三维半导体结构和三维半导体结构的制备方法 [P]. 
郭帅 ;
左明光 ;
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[3]
三维半导体结构及其制作方法 [P]. 
肖剑锋 .
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[4]
三维半导体结构及其制作方法 [P]. 
宋增超 .
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[5]
三维半导体结构及其制作方法 [P]. 
邱永振 ;
薛胜元 ;
李国兴 ;
吴建良 ;
康智凯 ;
黄冠凯 .
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[6]
三维半导体装置结构和三维半导体装置 [P]. 
杰弗里·P·甘比诺 ;
S·伯萨克 .
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[7]
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蔡洙杜 ;
利奥尔·胡利 ;
史蒂文·盖奇 ;
金昊珍 ;
张贺楠 ;
裴娜英 .
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[8]
三维封装的半导体结构 [P]. 
刘峻 .
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[9]
形成三维半导体结构的方法 [P]. 
施信益 .
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[10]
形成三维半导体结构的方法 [P]. 
施信益 .
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