飞秒激光直写与DMD无掩膜光刻一体化打印设备

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201910559021.X
申请日
2019-06-26
公开(公告)号
CN110286564A
公开(公告)日
2019-09-27
发明(设计)人
刘华
申请人
申请人地址
130024 吉林省长春市人民大街5268号
IPC主分类号
G03F720
IPC分类号
代理机构
长春市吉利专利事务所 22206
代理人
李晓莉
法律状态
实质审查的生效
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
飞秒激光直写与DMD无掩模光刻复合加工方法 [P]. 
刘华 ;
谭明月 .
中国专利 :CN113126453A ,2021-07-16
[2]
飞秒激光无掩膜直写系统 [P]. 
史长坤 ;
金贤敏 ;
方啸天 ;
王楚涵 ;
相保辰 ;
李涛 ;
马杰 .
中国专利 :CN121091614A ,2025-12-09
[3]
一种有机无机杂化飞秒激光直写光刻胶 [P]. 
曹春 ;
匡翠方 ;
夏贤梦 ;
沈小明 ;
邱毅伟 ;
关玲玲 ;
刘旭 .
中国专利 :CN114755884B ,2022-07-15
[4]
基于DMD的光刻与打印一体化设备及其构建方法 [P]. 
刘华 ;
罗钧 ;
张莹 ;
陆子凤 .
中国专利 :CN109774128A ,2019-05-21
[5]
一种飞秒激光直写光刻胶组合物 [P]. 
邱毅伟 ;
曹春 ;
沈小明 ;
夏贤梦 ;
匡翠方 ;
黄宁 ;
刘旭 .
中国专利 :CN113835296A ,2021-12-24
[6]
一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法 [P]. 
吴明仓 .
中国专利 :CN112379578A ,2021-02-19
[7]
一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法 [P]. 
吴明仓 .
中国专利 :CN112379577A ,2021-02-19
[8]
一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法 [P]. 
吴明仓 .
中国专利 :CN112379578B ,2025-11-25
[9]
一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法 [P]. 
吴明仓 .
中国专利 :CN112379577B ,2025-11-25
[10]
双波长飞秒激光直写微型化前驱体陶瓷高温薄膜传感器 [P]. 
王凌云 ;
唐蓝天 ;
钱显威 ;
周雄 ;
倪浩扬 ;
陈梦雪 .
中国专利 :CN120668216A ,2025-09-19