一种硅晶片清洗装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010807310.X

申请日：

2020-08-12

公开(公告)号：

CN111883468A

公开(公告)日：

2020-11-03

发明(设计)人：

魏运秀

申请人：

申请人地址：

341003 江西省赣州市赣州经济开发区香港工业园工业一路北赣州市业润自动化设备有限公司

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L21683 H01L2102 B08B100 B08B104

代理机构：

代理人：

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-11-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20200812
2020-11-03	公开	公开

共 50 条

[1]

一种硅晶片清洗装置 [P].

朱汪龙 ;

朱玲 .

中国专利 :CN210995512U ,2020-07-14

[2]

一种硅晶片高效清洗装置 [P].

任怡雯 ;

李漢生 ;

蔡雪良 .

中国专利 :CN213366540U ,2021-06-04

[3]

一种硅晶片清洗装置及清洗方法 [P].

唐永平 ;

肖斐 ;

刘智敏 .

中国专利 :CN119170526A ,2024-12-20

[4]

一种硅晶片清洗装置及其工艺 [P].

陈春成 ;

戚建静 .

中国专利 :CN112309886A ,2021-02-02

[5]

一种硅晶片匀速运输的清洗装置 [P].

卡尔·罗伯特·休斯特 .

中国专利 :CN216911276U ,2022-07-08

[6]

一种防硅晶片破损的清洗装置 [P].

卡尔·罗伯特·休斯特 .

中国专利 :CN217444343U ,2022-09-16

[7]

旋转式硅晶片清洗装置 [P].

大见忠弘 ;

白井泰雪 ;

藤田巧 ;

皆见幸男 ;

池田信一 ;

森本明弘 ;

川田幸司 .

中国专利 :CN100359641C ,2008-01-02

[8]

硅晶片清洗工艺 [P].

邹文龙 ;

张力峰 ;

田利中 ;

白青松 ;

梁会宁 .

中国专利 :CN105655239B ,2016-06-08

[9]

硅晶片的清洗方法、硅晶片的制造方法、以及硅晶片 [P].

中尾文彰 ;

芦马溪 ;

小田悠 .

日本专利 :CN121219817A ,2025-12-26

[10]

一种硅晶片的清洗工件 [P].

白青松 ;

张力峰 ;

田利中 ;

邹文龙 ;

梁会宁 .

中国专利 :CN205645767U ,2016-10-12

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