化学－机械抛光垫的修整装置及方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN00800916.3

申请日：

2000-03-29

公开(公告)号：

CN1125704C

公开(公告)日：

2001-08-29

发明(设计)人：

A·H·刘

申请人：

申请人地址：

荷兰艾恩德霍芬

IPC主分类号：

B24B3704

IPC分类号：

B24B53007 B24B53013 B24D1314 B24D1318 B24D710

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

蔡民军;杨松龄

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2002-05-29	实质审查的生效	实质审查的生效
2001-08-29	公开	公开
2003-10-29	授权	授权
2014-05-21	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101582394971 IPC(主分类):B24B 37/04 专利号:ZL008009163 申请日:20000329 授权公告日:20031029 终止日期:20130329
2007-10-10	专利申请权、专利权的转移专利权的转移	专利申请权、专利权的转移专利权的转移变更事项:专利权人变更前权利人:皇家菲利浦电子有限公司变更后权利人:NXP股份有限公司变更事项:地址变更前权利人:荷兰艾恩德霍芬变更后权利人:荷兰艾恩德霍芬登记生效日:20070831

共 50 条

[1]

化学机械抛光抛光垫修整装置 [P].

钟旻 .

中国专利 :CN203542368U ,2014-04-16

[2]

抛光垫修整装置、化学机械抛光装置和方法 [P].

马成斌 ;

季文明 .

中国专利 :CN112571281A ,2021-03-30

[3]

用于化学机械抛光的修整装置、方法及化学机械抛光系统 [P].

王春龙 ;

许振杰 ;

陈映松 ;

路新春 ;

王同庆 .

中国专利 :CN114536220A ,2022-05-27

[4]

化学机械抛光和垫修整方法 [P].

杰勒德·斯蒂芬·莫洛尼 ;

王惠明 ;

劳志刚 .

中国专利 :CN100526018C ,2004-03-31

[5]

化学机械抛光垫修整器 [P].

杨宗庆 ;

董光乾 ;

王伟东 ;

钱卫 ;

谢咸盛 .

中国专利 :CN202180415U ,2012-04-04

[6]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[7]

抛光垫修整方法及包含其的化学机械抛光方法 [P].

张康 ;

尹影 ;

李婷 ;

岳爽 .

中国专利 :CN107953259B ,2018-04-24

[8]

化学机械抛光工艺抛光垫的修整器 [P].

黄荣燕 .

中国专利 :CN206464992U ,2017-09-05

[9]

一种用于化学机械抛光的修整装置及系统 [P].

王春龙 ;

许振杰 ;

陈映松 ;

路新春 ;

王同庆 ;

赵德文 .

中国专利 :CN216940138U ,2022-07-12

[10]

化学机械抛光垫及化学机械装置 [P].

蒂莫西·詹姆斯·多诺休 ;

文卡塔·R·巴拉伽纳 ;

罗麦恩·比优·德·洛莫尼 .

中国专利 :CN2915378Y ,2007-06-27

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