抛光垫修整方法及包含其的化学机械抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201711254622.7

申请日：

2017-12-01

公开(公告)号：

CN107953259B

公开(公告)日：

2018-04-24

发明(设计)人：

张康尹影李婷岳爽

申请人：

申请人地址：

100176 北京市经济技术开发区泰河三街1号

IPC主分类号：

B24B5300

IPC分类号：

代理机构：

北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371

代理人：

李丙林

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-09-27	授权	授权
2018-04-24	公开	公开
2018-05-18	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 53/00 申请日:20171201

共 50 条

[1]

化学机械抛光抛光垫修整装置 [P].

钟旻 .

中国专利 :CN203542368U ,2014-04-16

[2]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[3]

化学机械抛光垫修整器 [P].

杨宗庆 ;

董光乾 ;

王伟东 ;

钱卫 ;

谢咸盛 .

中国专利 :CN202180415U ,2012-04-04

[4]

用于化学机械抛光的抛光垫及应用其的化学机械抛光方法 [P].

陈俊甫 ;

洪永泰 ;

苏金达 ;

陈光钊 .

中国专利 :CN101352844A ,2009-01-28

[5]

化学机械抛光和垫修整方法 [P].

杰勒德·斯蒂芬·莫洛尼 ;

王惠明 ;

劳志刚 .

中国专利 :CN100526018C ,2004-03-31

[6]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

田野裕之 ;

保坂幸生 ;

西村秀树 .

中国专利 :CN1864929A ,2006-11-22

[7]

抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘聪 .

中国专利 :CN119772781A ,2025-04-08

[8]

抛光垫修整器、化学机械抛光装置及用其抛光晶圆的方法 [P].

胡亚林 ;

高林 ;

黄振伟 .

中国专利 :CN112885753B ,2021-06-01

[9]

化学机械抛光垫、其制造方法以及化学机械抛光方法 [P].

冈本隆浩 ;

宫内裕之 ;

河原弘二 ;

志保浩司 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN1654169A ,2005-08-17

[10]

抛光垫修整装置、化学机械抛光装置和方法 [P].

马成斌 ;

季文明 .

中国专利 :CN112571281A ,2021-03-30

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