图形轮廓的检查装置和检查方法、曝光装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02823689.0

申请日：

2002-11-28

公开(公告)号：

CN100523795C

公开(公告)日：

2005-03-16

发明(设计)人：

宇田满寺川和成铃木晃森田千明山田靖治早野辉彦

申请人：

申请人地址：

美国纽约

IPC主分类号：

G01N21956

IPC分类号：

H01L2166 H01L21027

代理机构：

北京市中咨律师事务所

代理人：

李峥;杨晓光

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-03-16	公开	公开
2022-12-16	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):G01N 21/956 申请日:20021128 授权公告日:20090805
2005-05-18	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-08-05	授权	授权

共 50 条

[1]

曝光装置检查用掩模、曝光装置检查方法和曝光装置 [P].

福原和也 .

中国专利 :CN1605934A ,2005-04-13

[2]

图形检查装置和图形检查方法 [P].

黑田毅 .

中国专利 :CN103189893A ,2013-07-03

[3]

图形检查方法和图形检查装置 [P].

土屋英雄 ;

加藤芳秀 ;

松木一人 ;

真田恭 ;

小川力 ;

永尾拓朗 .

中国专利 :CN1285903C ,2004-07-14

[4]

曝光装置的检查方法 [P].

福原和也 ;

井上壮一 .

中国专利 :CN101063827A ,2007-10-31

[5]

缺陷检查装置、缺陷检查方法和孔图形的检查方法 [P].

杉原麻理 ;

大森健雄 ;

深泽和彦 .

中国专利 :CN1532518A ,2004-09-29

[6]

图形检查装置及图形检查方法 [P].

野本宪太郎 ;

松田僚三 ;

林宏树 .

中国专利 :CN101311706A ,2008-11-26

[7]

中间掩模检查装置和投影曝光装置 [P].

石田肇 ;

中本裕见 ;

田中浩 ;

川久保哲郎 ;

山部耕平 ;

松沢贤司 ;

千叶纯 ;

日吉诚人 .

日本专利 :CN119472159A ,2025-02-18

[8]

检查装置和使用检查装置的检查方法 [P].

申正勳 ;

俞相旭 ;

李埈诚 ;

金兑俊 .

韩国专利 :CN117590104A ,2024-02-23

[9]

曝光装置及检查方法 [P].

加藤正纪 ;

水野仁 ;

水野恭志 .

日本专利 :CN117581163A ,2024-02-20

[10]

曝光装置及其检查方法 [P].

谷田敏昭 .

中国专利 :CN106061077A ,2016-10-26

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