曝光装置的检查方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710096417.2

申请日：

2003-08-28

公开(公告)号：

CN101063827A

公开(公告)日：

2007-10-31

发明(设计)人：

福原和也井上壮一

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F100 H01L21027

代理机构：

北京市中咨律师事务所

代理人：

段承恩;杨光军

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-12-26	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-10-31	公开	公开
2014-10-22	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101587698062 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2007100964172 申请日:20030828 授权公告日:20090812 终止日期:20130828
2009-08-12	授权	授权

共 50 条

[1]

曝光装置及检查方法 [P].

加藤正纪 ;

水野仁 ;

水野恭志 .

日本专利 :CN117581163A ,2024-02-20

[2]

曝光装置及曝光方法 [P].

熊泽雅人 .

中国专利 :CN105652609A ,2016-06-08

[3]

曝光装置 [P].

福原和也 ;

井上壮一 .

中国专利 :CN100414438C ,2004-04-14

[4]

曝光装置、曝光方法和物品制造方法 [P].

铃木敢士 ;

八讲学 .

日本专利 :CN113759666B ,2024-09-13

[5]

曝光装置、曝光方法和物品制造方法 [P].

铃木敢士 ;

八讲学 .

中国专利 :CN113759666A ,2021-12-07

[6]

曝光装置的投影光学系统的性能检查方法和检查用光掩模 [P].

福原和也 ;

田中聪 ;

井上壮一 .

中国专利 :CN1288508C ,2004-05-05

[7]

曝光装置用曝光头、曝光装置以及曝光方法 [P].

奥山隆志 .

日本专利 :CN118689042A ,2024-09-24

[8]

曝光方法及曝光装置 [P].

李煜芝 ;

戴文斌 ;

张民山 ;

蓝科 ;

周畅 .

中国专利 :CN118092085B ,2025-04-25

[9]

曝光装置和曝光方法 [P].

三宅健 ;

高木俊博 .

中国专利 :CN102063020A ,2011-05-18

[10]

曝光装置及曝光方法 [P].

豊田光纪 ;

谷津修 ;

竹内裕一郎 ;

蛭川茂 ;

诹访恭一 ;

中岛利治 .

中国专利 :CN1407408A ,2003-04-02

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