曝光装置的投影光学系统的性能检查方法和检查用光掩模

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03147290.7

申请日：

2003-07-11

公开(公告)号：

CN1288508C

公开(公告)日：

2004-05-05

发明(设计)人：

福原和也田中聪井上壮一

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F900 G02B2728 G01M1102

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

李德山

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2004-05-05	公开	公开
2006-12-06	授权	授权
2004-07-07	实质审查的生效	实质审查的生效
2014-08-27	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101586608386 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL031472907 申请日:20030711 授权公告日:20061206 终止日期:20130711

共 50 条

[1]

投影光学系统、投影光学系统的制造方法和使用该光学系统的投影曝光装置 [P].

平岩弘之 ;

田中一政 .

中国专利 :CN1293822A ,2001-05-02

[2]

投影光学系统和具有该投影光学系统的曝光装置 [P].

末永丰 .

中国专利 :CN1423147A ,2003-06-11

[3]

投影光学系统,具有该投影光学系统的投影曝光装置以及投影曝光方法 [P].

重松幸二 ;

水泽圣幸 ;

藤岛洋平 ;

松本实保 .

中国专利 :CN1376949A ,2002-10-30

[4]

投影光学系统以及具备此投影光学系统的曝光装置 [P].

铃木刚司 .

中国专利 :CN1374560A ,2002-10-16

[5]

投影光学系统以及具备该投影光学系统的曝光装置 [P].

高桥友刀 .

中国专利 :CN1497353A ,2004-05-19

[6]

投影光学系统及具备该投影光学系统的曝光装置 [P].

高桥友刀 .

中国专利 :CN1522381A ,2004-08-18

[7]

投影光学系统以及具有该投影光学系统的曝光装置 [P].

高桥友刀 .

中国专利 :CN100439965C ,2007-01-10

[8]

投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P].

大村泰弘 .

中国专利 :CN1324342C ,2003-10-29

[9]

投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P].

大村泰弘 .

中国专利 :CN101216682A ,2008-07-09

[10]

投影光学系统、曝光装置以及曝光方法 [P].

铃木刚司 ;

小松田秀基 ;

大村泰弘 .

中国专利 :CN1452016A ,2003-10-29

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