中间掩模检查装置和投影曝光装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410213729.0

申请日：

2024-02-27

公开(公告)号：

CN119472159A

公开(公告)日：

2025-02-18

发明(设计)人：

石田肇中本裕见田中浩川久保哲郎山部耕平松沢贤司千叶纯日吉诚人

申请人：

株式会社ORC制作所

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F1/84

IPC分类号：

G03F7/20

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

王璐;杨俊波

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-14	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/84申请日:20240227
2025-02-18	公开	公开

共 50 条

[1]

曝光装置检查用掩模、曝光装置检查方法和曝光装置 [P].

福原和也 .

中国专利 :CN1605934A ,2005-04-13

[2]

投影曝光用掩模、投影曝光装置、及投影曝光方法 [P].

饭塚和央 ;

磯端纯二 ;

田中信义 .

中国专利 :CN100343759C ,2004-08-11

[3]

投影曝光装置、投影曝光方法以及掩模版 [P].

中泽朗 .

中国专利 :CN106483773A ,2017-03-08

[4]

中间掩模透射率测量方法、投影曝光装置及投影曝光方法 [P].

村田通博 ;

五味丰 .

中国专利 :CN105511232A ,2016-04-20

[5]

曝光装置的投影光学系统的性能检查方法和检查用光掩模 [P].

福原和也 ;

田中聪 ;

井上壮一 .

中国专利 :CN1288508C ,2004-05-05

[6]

曝光装置和光掩模 [P].

畑中诚 .

中国专利 :CN102597880A ,2012-07-18

[7]

掩模板温度控制装置和掩模曝光装置 [P].

张明辉 ;

周剑锋 ;

郑锋标 ;

张帅 .

中国专利 :CN111948907A ,2020-11-17

[8]

掩模台、掩模台系统和曝光装置 [P].

吴韦志 .

中国专利 :CN111694224A ,2020-09-22

[9]

掩模台、掩模台系统和曝光装置 [P].

吴韦志 .

中国专利 :CN209433186U ,2019-09-24

[10]

图形轮廓的检查装置和检查方法、曝光装置 [P].

宇田满 ;

寺川和成 ;

铃木晃 ;

森田千明 ;

山田靖治 ;

早野辉彦 .

中国专利 :CN100523795C ,2005-03-16

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