一种金属膜层的沉积方法

被引：0

申请号：

CN202211118846.6

申请日：

2022-09-15

公开(公告)号：

CN115449870A

公开(公告)日：

2022-12-09

发明(设计)人：

陈峰王晓兵

申请人：

申请人地址：

226500 江苏省南通市如皋市经济开发区起凤西路111号

IPC主分类号：

C25D510

IPC分类号：

代理机构：

北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390

代理人：

李莹

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-12-09	公开	公开
2022-12-27	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C25D 5/10 申请日:20220915

共 50 条

[1]

一种金属膜层沉积方法和金属膜层沉积设备 [P].

何中凯 ;

荣延栋 ;

刘菲菲 ;

夏威 ;

丁培军 .

中国专利 :CN109207942A ,2019-01-15

[2]

一种金属膜层沉积设备及其方法 [P].

王晓兵 ;

陈峰 ;

陈宇 .

中国专利 :CN113584569A ,2021-11-02

[3]

金属膜层的沉积方法及半导体器件 [P].

孙建 ;

方龑 ;

顾浩 .

中国专利 :CN121046782A ,2025-12-02

[4]

在光纤传感器端面沉积金属膜层的方法 [P].

蔡文斌 ;

霍胜娟 ;

王金意 .

中国专利 :CN101063624A ,2007-10-31

[5]

金属膜的沉积 [P].

尹炳勋 ;

雷伟 ;

柳尚澔 .

中国专利 :CN115003854A ,2022-09-02

[6]

金属膜的沉积 [P].

约瑟亚·科林斯 ;

格里芬·约翰·肯尼迪 ;

汉娜·班诺克尔 ;

帕特里克·范克利蒙布特 ;

塞沙萨耶·瓦拉达拉简 .

中国专利 :CN113366144A ,2021-09-07

[7]

金属膜的沉积 [P].

尹炳勋 ;

雷伟 ;

柳尚澔 .

美国专利 :CN115003854B ,2024-07-23

[8]

金属膜的沉积 [P].

阿夫耶里诺斯·V·杰拉托斯 ;

仓富敬 ;

海克·林 ;

伊诚·陈 ;

张镁 .

中国专利 :CN110024079A ,2019-07-16

[9]

金属膜沉积 [P].

雷雨 ;

李相协 ;

克里斯·帕贝里可 ;

徐翼 ;

河泰泓 ;

唐先民 ;

朴金河 .

中国专利 :CN112105758A ,2020-12-18

[10]

一种用于物理沉积金属膜层的有机复合材料 [P].

黄贤明 ;

周东波 ;

张先超 ;

阙举锟 .

中国专利 :CN106380773B ,2017-02-08

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