超紫外线光刻投影光学系统和相关方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410449045.7

申请日：

2014-09-04

公开(公告)号：

CN104914678A

公开(公告)日：

2015-09-16

发明(设计)人：

游信胜卢彦丞严涛南

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409

代理人：

章社杲;孙征

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-09-16	公开	公开
2015-10-14	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101629174072 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2014104490457 申请日:20140904
2017-10-20	授权	授权

共 50 条

[1]

离轴投影光学系统和使用该系统的超紫外线光刻装置 [P].

张丞爀 ;

宋利宪 ;

金元柱 ;

金锡必 ;

金勋 .

中国专利 :CN1825210B ,2006-08-30

[2]

离轴投影光学系统及使用该系统的超紫外线光刻装置 [P].

张丞爀 ;

宋利宪 ;

朴永洙 ;

金锡必 ;

金勋 .

中国专利 :CN1881091A ,2006-12-20

[3]

微光刻投影光学系统 [P].

H-J.曼恩 ;

W.乌尔里希 ;

M.普莱托里尔斯 .

中国专利 :CN103076723A ,2013-05-01

[4]

一种紫外超表面投影光学系统 [P].

梁中翥 ;

郭思妤 ;

付申成 ;

徐海阳 ;

史晓燕 ;

杨福明 ;

刘益春 .

中国专利 :CN120276218A ,2025-07-08

[5]

投影光学系统和使用投影光学系统的投影显示单元 [P].

石藏直史 .

中国专利 :CN101952774A ,2011-01-19

[6]

投影光学系统、投影光学系统的制造方法和使用该光学系统的投影曝光装置 [P].

平岩弘之 ;

田中一政 .

中国专利 :CN1293822A ,2001-05-02

[7]

成像光学系统、图像投影光学系统和图像投影装置 [P].

市村纯也 .

中国专利 :CN104460001B ,2015-03-25

[8]

投影光学系统 [P].

孟祥月 ;

陈威望 ;

宋立通 ;

励维芳 ;

贺凌波 ;

戴付建 .

中国专利 :CN121209064A ,2025-12-26

[9]

投影光学系统 [P].

杨威 ;

全丽伟 ;

李源财 ;

章丽娟 ;

姜永旭 ;

饶钦和 .

中国专利 :CN120669392A ,2025-09-19

[10]

投影光学系统 [P].

郑竹明 .

中国专利 :CN100371767C ,2005-04-20

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