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半导体器件的隔离
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201210519773.1
申请日
:
2012-12-06
公开(公告)号
:
CN103681454A
公开(公告)日
:
2014-03-26
发明(设计)人
:
许文义
高敏峰
刘人诚
杨敦年
许慈轩
王文德
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹
IPC主分类号
:
H01L21762
IPC分类号
:
H01L2906
代理机构
:
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
:
章社杲;孙征
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-08-03
授权
授权
2014-04-23
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101581671461 IPC(主分类):H01L 21/762 专利申请号:2012105197731 申请日:20121206
2014-03-26
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件的器件隔离方法
[P].
安东浩
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安东浩
;
安性俊
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安性俊
;
申裕均
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申裕均
;
金允基
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金允基
.
中国专利
:CN1059517C
,1996-05-29
[2]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
何嘉玮
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何嘉玮
;
徐俊伟
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徐俊伟
;
沈稘翔
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沈稘翔
;
刘启人
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刘启人
;
林易生
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林易生
;
郑仰钧
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郑仰钧
;
洪伟伦
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洪伟伦
;
陈亮光
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陈亮光
;
陈科维
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陈科维
.
中国专利
:CN110970392B
,2020-04-07
[3]
制造半导体器件的方法和半导体器件
[P].
沙哈吉·B·摩尔
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
沙哈吉·B·摩尔
;
蔡俊雄
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
蔡俊雄
.
中国专利
:CN113314608B
,2024-09-06
[4]
制造半导体器件的方法和半导体器件
[P].
关恕
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关恕
;
沙哈吉·B·摩尔
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沙哈吉·B·摩尔
;
林千
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林千
;
李承翰
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李承翰
;
张世杰
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张世杰
.
中国专利
:CN113314418A
,2021-08-27
[5]
制造半导体器件的方法和半导体器件
[P].
沙哈吉·B·摩尔
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沙哈吉·B·摩尔
;
蔡俊雄
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蔡俊雄
.
中国专利
:CN113314608A
,2021-08-27
[6]
半导体器件和制造半导体器件的方法
[P].
吴以雯
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吴以雯
;
李振铭
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李振铭
;
杨复凯
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杨复凯
;
王美匀
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王美匀
;
张长昀
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张长昀
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傅劲逢
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傅劲逢
;
王鹏
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王鹏
.
中国专利
:CN110875252B
,2020-03-10
[7]
制造半导体器件的方法和半导体器件
[P].
关恕
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
关恕
;
沙哈吉·B·摩尔
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
沙哈吉·B·摩尔
;
林千
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林千
;
李承翰
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
李承翰
;
张世杰
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张世杰
.
中国专利
:CN113314418B
,2024-03-08
[8]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
薛仁智
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薛仁智
;
洪志昌
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洪志昌
;
尹宗凡
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尹宗凡
;
邱意为
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邱意为
.
中国专利
:CN110660743A
,2020-01-07
[9]
制造半导体器件的方法和半导体器件
[P].
彭成毅
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彭成毅
;
陈文园
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陈文园
;
谢文兴
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谢文兴
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许一如
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许一如
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何炯煦
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何炯煦
;
李松柏
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李松柏
;
田博仁
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田博仁
.
中国专利
:CN111128888B
,2020-05-08
[10]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
朱峯庆
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
朱峯庆
;
李威养
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
李威养
;
杨丰诚
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
杨丰诚
;
陈燕铭
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈燕铭
.
中国专利
:CN113284849B
,2025-05-27
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