半导体生产设备及半导体工艺方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201711055985.8
申请日
2017-11-01
公开(公告)号
CN109750274A
公开(公告)日
2019-05-14
发明(设计)人
不公告发明人
申请人
申请人地址
230601 安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
IPC主分类号
C23C1644
IPC分类号
H01L2167
代理机构
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人
余明伟
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体生产设备的清洗方法及半导体工艺方法 [P]. 
王婷 ;
任兴润 ;
何丹丹 ;
刘洋 .
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[2]
半导体清洁装置及半导体生产设备 [P]. 
李万 ;
杨昌伟 ;
林泽阳 .
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[3]
半导体设备及半导体工艺方法 [P]. 
刘金营 .
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[4]
半导体设备及半导体工艺方法 [P]. 
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[5]
一种半导体生产设备及工艺方法 [P]. 
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[6]
半导体生产设备 [P]. 
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刘欣 ;
罗骞 ;
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[7]
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邱岳金 .
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[8]
半导体生产设备 [P]. 
吴彩庭 ;
毛朝斌 ;
伍三忠 ;
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[9]
半导体工艺方法和半导体工艺设备 [P]. 
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[10]
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