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一种干法刻蚀方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201911367606.8
申请日
:
2019-12-26
公开(公告)号
:
CN111029254A
公开(公告)日
:
2020-04-17
发明(设计)人
:
李树宏
李三三
刘一川
汤伟杰
申请人
:
申请人地址
:
215143 江苏省苏州市苏州相城经济技术开发区漕湖产业园方桥路568号
IPC主分类号
:
H01L213065
IPC分类号
:
H01L2167
代理机构
:
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人
:
孟金喆
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-05-12
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/3065 申请日:20191226
2020-04-17
公开
公开
共 50 条
[1]
干法刻蚀机台及干法刻蚀方法
[P].
李国强
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
广州市艾佛光通科技有限公司
广州市艾佛光通科技有限公司
李国强
;
衣新燕
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机构:
广州市艾佛光通科技有限公司
广州市艾佛光通科技有限公司
衣新燕
.
中国专利
:CN117096067B
,2024-03-01
[2]
干法刻蚀方法
[P].
崔红星
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崔红星
;
代大全
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代大全
;
吕睿
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吕睿
;
李大勇
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李大勇
.
中国专利
:CN101211751A
,2008-07-02
[3]
一种干法刻蚀方法
[P].
黄海
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黄海
;
洪齐元
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洪齐元
.
中国专利
:CN103871847A
,2014-06-18
[4]
一种干法刻蚀方法
[P].
汪之涵
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机构:
深圳基本半导体有限公司
深圳基本半导体有限公司
汪之涵
;
和巍巍
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机构:
深圳基本半导体有限公司
深圳基本半导体有限公司
和巍巍
;
温正欣
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机构:
深圳基本半导体有限公司
深圳基本半导体有限公司
温正欣
.
中国专利
:CN118507343A
,2024-08-16
[5]
干法刻蚀机台及干法刻蚀方法
[P].
高鹏飞
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高鹏飞
;
丁玎
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丁玎
.
中国专利
:CN109755159B
,2019-05-14
[6]
干法刻蚀方法
[P].
丁向前
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丁向前
;
刘耀
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刘耀
;
陈曦
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陈曦
;
李梁梁
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李梁梁
;
白金超
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白金超
;
刘晓伟
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刘晓伟
.
中国专利
:CN103996621A
,2014-08-20
[7]
干法刻蚀工艺方法
[P].
赵博超
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赵博超
.
中国专利
:CN112103167A
,2020-12-18
[8]
干法刻蚀方法
[P].
汪新学
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汪新学
;
王伟军
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王伟军
.
中国专利
:CN102254812A
,2011-11-23
[9]
干法刻蚀方法
[P].
吴智勇
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吴智勇
;
邱华军
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邱华军
.
中国专利
:CN102693911A
,2012-09-26
[10]
干法刻蚀方法
[P].
吴贤丰
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机构:
苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
吴贤丰
;
延宇豪
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机构:
苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
延宇豪
;
邱山峰
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苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
邱山峰
;
孙磊
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机构:
苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
孙磊
.
中国专利
:CN119038485A
,2024-11-29
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