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电感耦合等离子体产生装置及半导体加工设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201810235157.0
申请日
:
2018-03-21
公开(公告)号
:
CN110299276B
公开(公告)日
:
2019-10-01
发明(设计)人
:
郭士选
韦刚
王炳元
苏恒毅
申请人
:
申请人地址
:
100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
代理机构
:
北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315
代理人
:
施敬勃
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-11-01
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20180321
2019-10-01
公开
公开
2022-11-25
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体加工设备及等离子体产生方法
[P].
成晓阳
论文数:
0
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0
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0
成晓阳
.
中国专利
:CN106711005A
,2017-05-24
[2]
电感耦合等离子体产生装置及等离子体加工设备
[P].
常楷
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0
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0
常楷
.
中国专利
:CN107864545B
,2018-03-30
[3]
等离子体产生装置和半导体加工设备
[P].
李兴存
论文数:
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李兴存
;
赵隆超
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0
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赵隆超
.
中国专利
:CN106328472B
,2017-01-11
[4]
远程等离子体源产生装置及半导体加工设备
[P].
王桂滨
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0
王桂滨
;
楼丰瑞
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楼丰瑞
;
石锗元
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石锗元
;
廉串海
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廉串海
;
吕增富
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0
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吕增富
.
中国专利
:CN110993479B
,2020-04-10
[5]
电感耦合等离子体装置及半导体薄膜设备
[P].
余先炜
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余先炜
;
田才忠
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田才忠
;
林保璋
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林保璋
.
中国专利
:CN114023622B
,2022-02-08
[6]
电感耦合等离子体装置及半导体薄膜设备
[P].
余先炜
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机构:
盛吉盛半导体科技(北京)有限公司
盛吉盛半导体科技(北京)有限公司
余先炜
;
田才忠
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机构:
盛吉盛半导体科技(北京)有限公司
盛吉盛半导体科技(北京)有限公司
田才忠
;
王美玲
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机构:
盛吉盛半导体科技(北京)有限公司
盛吉盛半导体科技(北京)有限公司
王美玲
;
林保璋
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0
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机构:
盛吉盛半导体科技(北京)有限公司
盛吉盛半导体科技(北京)有限公司
林保璋
.
中国专利
:CN115295389B
,2025-07-15
[7]
电感耦合线圈及电感耦合等离子体装置
[P].
宋巧丽
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宋巧丽
;
南建辉
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南建辉
.
中国专利
:CN101131893A
,2008-02-27
[8]
电感耦合线圈及电感耦合等离子体装置
[P].
宋巧丽
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宋巧丽
;
南建辉
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南建辉
.
中国专利
:CN101136279B
,2008-03-05
[9]
一种等离子体产生腔及半导体加工设备
[P].
侯宁
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侯宁
.
中国专利
:CN109727838B
,2019-05-07
[10]
电感耦合线圈及电感耦合等离子体装置
[P].
刘宏
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刘宏
;
刘晓晗
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刘晓晗
;
袁洁静
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袁洁静
.
中国专利
:CN201311804Y
,2009-09-16
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