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功率半导体器件
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN01123243.9
申请日
:
2001-07-20
公开(公告)号
:
CN1354510A
公开(公告)日
:
2002-06-19
发明(设计)人
:
西堀弘
深田雅一
吉田贵信
吉松直树
高尾治雄
木本信义
上贝康己
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01L2315
IPC分类号
:
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司
代理人
:
王岳;叶恺东
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2001-12-12
实质审查的生效
实质审查的生效
2021-08-06
专利权的终止
专利权有效期届满 IPC(主分类):H01L 23/15 申请日:20010720 授权公告日:20050525
2005-05-25
授权
授权
2002-06-19
公开
公开
共 50 条
[1]
功率半导体器件
[P].
楠川顺平
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机构:
日立安斯泰莫株式会社
日立安斯泰莫株式会社
楠川顺平
;
井出英一
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机构:
日立安斯泰莫株式会社
日立安斯泰莫株式会社
井出英一
;
平尾高志
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机构:
日立安斯泰莫株式会社
日立安斯泰莫株式会社
平尾高志
;
金子裕二朗
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机构:
日立安斯泰莫株式会社
日立安斯泰莫株式会社
金子裕二朗
.
日本专利
:CN117501434A
,2024-02-02
[2]
半导体器件
[P].
征矢野伸
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征矢野伸
.
中国专利
:CN102576706A
,2012-07-11
[3]
功率半导体器件和制造功率半导体器件的方法
[P].
C·奎斯特-马特
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机构:
纬湃科技有限责任公司
纬湃科技有限责任公司
C·奎斯特-马特
;
D·巴贡
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机构:
纬湃科技有限责任公司
纬湃科技有限责任公司
D·巴贡
;
D·沃尔夫
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机构:
纬湃科技有限责任公司
纬湃科技有限责任公司
D·沃尔夫
.
德国专利
:CN114450783B
,2025-11-11
[4]
功率半导体器件和制造功率半导体器件的方法
[P].
C·奎斯特-马特
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C·奎斯特-马特
;
D·巴贡
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D·巴贡
;
D·沃尔夫
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D·沃尔夫
.
中国专利
:CN114450783A
,2022-05-06
[5]
功率半导体器件
[P].
R.巴布尔斯克
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
R.巴布尔斯克
;
M.耶利内克
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
M.耶利内克
;
F-J.尼德诺斯泰德
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
F-J.尼德诺斯泰德
;
F.D.普菲尔施
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英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
F.D.普菲尔施
;
C.P.桑多
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
C.P.桑多
;
H-J.舒尔策
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
H-J.舒尔策
.
德国专利
:CN111326575B
,2025-05-13
[6]
功率半导体器件
[P].
M.费尔
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M.费尔
;
P.C.布兰特
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P.C.布兰特
;
E.莱歇尔
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E.莱歇尔
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H.梅克尔
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H.梅克尔
;
K.施拉姆尔
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K.施拉姆尔
.
中国专利
:CN110660795A
,2020-01-07
[7]
功率半导体器件
[P].
朴锺镐
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朴锺镐
;
胡尚寿
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胡尚寿
;
李相龙
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李相龙
;
金世云
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金世云
.
中国专利
:CN211428177U
,2020-09-04
[8]
功率半导体器件
[P].
R.巴布尔斯克
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R.巴布尔斯克
;
M.耶利内克
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M.耶利内克
;
F-J.尼德诺斯泰德
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F-J.尼德诺斯泰德
;
F.D.普菲尔施
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F.D.普菲尔施
;
C.P.桑多
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C.P.桑多
;
H-J.舒尔策
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H-J.舒尔策
.
中国专利
:CN111326575A
,2020-06-23
[9]
功率半导体器件
[P].
朴镇玉
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机构:
LX半导体科技有限公司
LX半导体科技有限公司
朴镇玉
;
姜男主
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LX半导体科技有限公司
LX半导体科技有限公司
姜男主
;
宋承昱
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LX半导体科技有限公司
LX半导体科技有限公司
宋承昱
;
李枓炯
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LX半导体科技有限公司
LX半导体科技有限公司
李枓炯
;
李在德
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机构:
LX半导体科技有限公司
LX半导体科技有限公司
李在德
.
韩国专利
:CN119907281A
,2025-04-29
[10]
功率半导体器件
[P].
石川胜美
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石川胜美
;
齐藤克明
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齐藤克明
;
佐藤裕
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佐藤裕
;
渡边笃雄
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渡边笃雄
;
加藤修治
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加藤修治
;
门马直弘
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门马直弘
.
中国专利
:CN1150337A
,1997-05-21
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