双电流阻挡层电流输运结构的薄膜型发光二极管

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201020174394.X
申请日
2010-04-23
公开(公告)号
CN201699049U
公开(公告)日
2011-01-05
发明(设计)人
沈光地 陈依新
申请人
申请人地址
100124 北京市朝阳区平乐园100号光电子技术实验室
IPC主分类号
H01L3314
IPC分类号
代理机构
北京思海天达知识产权代理有限公司 11203
代理人
吴荫芳
法律状态
专利权的终止
国省代码
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共 50 条
[1]
薄膜型发光二极管中的电流输运结构及其制备方法 [P]. 
沈光地 ;
陈依新 .
中国专利 :CN101834249A ,2010-09-15
[2]
电流阻挡层的分布与上电极对应的发光二极管 [P]. 
沈光地 ;
陈依新 .
中国专利 :CN201349018Y ,2009-11-18
[3]
电流输运增透窗口层和高反射图形转移衬底的发光二极管 [P]. 
沈光地 ;
陈依新 ;
李建军 ;
蒋文静 ;
韩金茹 .
中国专利 :CN201036231Y ,2008-03-12
[4]
一种具有电流输运增透窗口层结构的发光二极管 [P]. 
沈光地 ;
陈依新 ;
韩金茹 .
中国专利 :CN201060869Y ,2008-05-14
[5]
一种具有电流输运增透窗口层结构的发光二极管 [P]. 
沈光地 ;
陈依新 ;
韩金茹 .
中国专利 :CN100438110C ,2007-07-11
[6]
一种具有电流阻挡层的发光二极管 [P]. 
樊邦扬 ;
叶国光 .
中国专利 :CN201374348Y ,2009-12-30
[7]
一种发光二极管的电流阻挡层结构 [P]. 
徐海文 ;
杨睿明 .
中国专利 :CN105633231A ,2016-06-01
[8]
具有电流输运增透窗口层和高反射图形转移衬底结构的发光二极管 [P]. 
沈光地 ;
陈依新 ;
李建军 ;
蒋文静 ;
韩金茹 .
中国专利 :CN101009353B ,2007-08-01
[9]
电流阻挡层的分布与上电极对应的发光二极管及其制备方法 [P]. 
沈光地 ;
陈依新 .
中国专利 :CN101388431A ,2009-03-18
[10]
一种具有电流阻挡层的发光二极管 [P]. 
樊邦扬 ;
叶国光 .
中国专利 :CN101510580A ,2009-08-19