一种用于X射线源剂量率监控的穿透电离室

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02156411.6

申请日：

2002-12-16

公开(公告)号：

CN1220069C

公开(公告)日：

2004-06-30

发明(设计)人：

李元景缪庆文张清军高文焕代主得郭红云

申请人：

申请人地址：

100083北京市清华同方科技广场A座2907

IPC主分类号：

G01T1185

IPC分类号：

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法律状态：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-09-21	授权	授权
2023-01-03	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):G01T 1/185 申请日:20021216 授权公告日:20050921
2004-06-30	公开	公开
2007-12-26	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更变更事项:专利权人变更前:清华大学变更后:清华大学变更事项:地址变更前:100083北京市清华同方科技广场A座2907 变更后:100083北京市清华同方科技广场A座2907 变更事项:共同专利权人变更前:清华同方威视技术股份有限公司变更后:同方威视技术股份有限公司
2004-09-08	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

用于X射线源剂量率监控的穿透电离室 [P].

李元景 ;

缪庆文 ;

张清军 ;

高文焕 ;

代主得 ;

郭红云 .

中国专利 :CN2591644Y ,2003-12-10

[2]

用于X射线源剂量率监控的小尺寸穿透电离室 [P].

李元景 ;

缪庆文 ;

张清军 ;

高文焕 ;

代主得 ;

李树伟 .

中国专利 :CN2736785Y ,2005-10-26

[3]

一种用于X射线源剂量率监控的小尺寸穿透电离室 [P].

李元景 ;

缪庆文 ;

张清军 ;

高文焕 ;

代主得 ;

李树伟 .

中国专利 :CN1749778A ,2006-03-22

[4]

一种采用两路电离室检测信号的X射线源装置 [P].

邬海峰 .

中国专利 :CN203492259U ,2014-03-19

[5]

一种薄型X光束电离室 [P].

谢亚宁 .

中国专利 :CN108594287A ,2018-09-28

[6]

一种薄型X光束电离室 [P].

谢亚宁 .

中国专利 :CN208444013U ,2019-01-29

[7]

一种X射线源 [P].

马玉田 ;

李保磊 ;

任彦 ;

魏增辉 ;

袁雨 ;

莫阳 ;

胡艳涛 ;

孟立周 .

中国专利 :CN223567832U ,2025-11-18

[8]

一种X射线源和X射线源装置 [P].

邓顺利 ;

赵建军 .

中国专利 :CN205265987U ,2016-05-25

[9]

一种用于高能电子束剂量测量的平板电离室 [P].

龚岚 ;

周媛媛 ;

程金星 ;

王庆波 ;

于艾 .

中国专利 :CN111540663B ,2025-01-21

[10]

一种用于高能电子束剂量测量的平板电离室 [P].

龚岚 ;

周媛媛 ;

程金星 ;

王庆波 ;

于艾 .

中国专利 :CN111540663A ,2020-08-14

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