一种用于X射线源剂量率监控的小尺寸穿透电离室

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200410009553.X

申请日：

2004-09-14

公开(公告)号：

CN1749778A

公开(公告)日：

2006-03-22

发明(设计)人：

李元景缪庆文张清军高文焕代主得李树伟

申请人：

申请人地址：

100083北京市清华同方科技广场A座2907

IPC主分类号：

G01T1185

IPC分类号：

G01N2304

代理机构：

代理人：

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-01-02	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更变更前权利人:清华大学变更后权利人:清华大学变更事项:地址变更前权利人:北京市清华同方科技广场A座2907 邮编: 100083 变更事项:专利权人变更后权利人:北京市清华同方科技广场A座2907 邮编: 100083 变更事项:共同专利权人变更前权利人:清华同方威视技术股份有限公司变更后权利人:同方威视技术股份有限公司
2007-08-08	授权	授权
2006-05-17	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-03-22	公开	公开

共 50 条

[1]

用于X射线源剂量率监控的小尺寸穿透电离室 [P].

李元景 ;

缪庆文 ;

张清军 ;

高文焕 ;

代主得 ;

李树伟 .

中国专利 :CN2736785Y ,2005-10-26

[2]

用于X射线源剂量率监控的穿透电离室 [P].

李元景 ;

缪庆文 ;

张清军 ;

高文焕 ;

代主得 ;

郭红云 .

中国专利 :CN2591644Y ,2003-12-10

[3]

一种用于X射线源剂量率监控的穿透电离室 [P].

李元景 ;

缪庆文 ;

张清军 ;

高文焕 ;

代主得 ;

郭红云 .

中国专利 :CN1220069C ,2004-06-30

[4]

一种采用两路电离室检测信号的X射线源装置 [P].

邬海峰 .

中国专利 :CN203492259U ,2014-03-19

[5]

一种用于辐射剂量测量的平板电离室 [P].

翟贺争 ;

武权 ;

赵徵鑫 ;

杨浩贤 ;

黄伟旭 ;

李重贤 ;

王建礼 ;

李立芳 ;

马赛 ;

孙昊 .

中国专利 :CN216351257U ,2022-04-19

[6]

一种X射线源剂量的控制方法及装置 [P].

高龙 ;

刘凯 ;

唐鹏 ;

于美东 ;

王少波 ;

吴胜 ;

李健 .

中国专利 :CN121078603A ,2025-12-05

[7]

一种X射线源的辐射屏蔽装置及X射线源 [P].

严凡 ;

杨培强 .

中国专利 :CN220491834U ,2024-02-13

[8]

一种X射线源的剂量和焦斑测量工装 [P].

董石泉 ;

孙再俊 ;

瞿学峰 ;

赵立山 .

中国专利 :CN120891530A ,2025-11-04

[9]

一种用于安检设备的X射线源 [P].

陈忠 .

中国专利 :CN209731674U ,2019-12-03

[10]

一种X射线源剂量分布测试方法及系统 [P].

张鸿斌 ;

薛辉 ;

李帅杰 ;

范声芳 .

中国专利 :CN115774283B ,2025-08-22

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